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电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

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国际标准分类中，电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南涉及到有色金属产品、半导体材料。

在中国标准分类中，电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南涉及到贵金属及其合金。

行业标准-有色金属，关于电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南的标准

• YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

美国材料与试验协会，关于电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南的标准

• ASTM F2113-01 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
• ASTM F2113-01(2007) 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

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