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Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

Für die Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie gibt es insgesamt 20 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie die folgenden Kategorien: Längen- und Winkelmessungen, Thermodynamik und Temperaturmessung, Nichteisenmetalle, analytische Chemie.


American Society for Testing and Materials (ASTM), Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • ASTM E2382-04(2020) Standardhandbuch für Scanner- und Spitzenartefakte in der Rastertunnelmikroskopie und der Rasterkraftmikroskopie
  • ASTM E2382-04 Leitfaden zu Scanner- und Spitzenartefakten in der Rastertunnelmikroskopie und der Rasterkraftmikroskopie
  • ASTM E2382-04(2012) Standardhandbuch für Scanner- und Spitzenartefakte in der Rastertunnelmikroskopie und der Rasterkraftmikroskopie

Group Standards of the People's Republic of China, Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • T/QGCML 1940-2023 Rasterelektronenmikroskop-In-situ-Hochtemperatur-Mechanikprüfgerät

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • KS D 2713-2016 Bewertung der räumlichen Auflösung von NSOM (Near-field Scanning Optical Microscope)
  • KS D 2713-2016(2021) Bewertung der räumlichen Auflösung von NSOM (Near-field Scanning Optical Microscope)

International Organization for Standardization (ISO), Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • ISO 27911:2011 Chemische Oberflächenanalyse – Rastersondenmikroskopie – Definition und Kalibrierung der lateralen Auflösung eines optischen Nahfeldmikroskops
  • ISO 21222:2020 Chemische Oberflächenanalyse – Rastersondenmikroskopie – Verfahren zur Bestimmung der Elastizitätsmodule für nachgiebige Materialien unter Verwendung des Rasterkraftmikroskops und der Zweipunkt-JKR-Methode
  • ISO 13095:2014 Chemische Oberflächenanalyse – Rasterkraftmikroskopie – Verfahren zur In-situ-Charakterisierung des AFM-Sondenschaftprofils, das für die Nanostrukturmessung verwendet wird

British Standards Institution (BSI), Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • BS ISO 27911:2011 Chemische Oberflächenanalyse. Rastersondenmikroskopie. Definition und Kalibrierung der lateralen Auflösung eines optischen Nahfeldmikroskops
  • BS ISO 21222:2020 Chemische Oberflächenanalyse. Rastersondenmikroskopie. Verfahren zur Bestimmung der Elastizitätsmoduli für nachgiebige Materialien mittels Rasterkraftmikroskop und der Zweipunkt-JKR-Methode
  • 19/30351707 DC BS ISO 21222. Chemische Oberflächenanalyse. Rastersondenmikroskopie. Verfahren zur Bestimmung der Elastizitätsmoduli für nachgiebige Materialien mittels Rasterkraftmikroskop und der Zweipunkt-JKR-Methode
  • BS ISO 13095:2014 Chemische Oberflächenanalyse. Rasterkraftmikroskopie. Verfahren zur In-situ-Charakterisierung des AFM-Sondenschaftprofils, das für die Nanostrukturmessung verwendet wird

German Institute for Standardization, Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • DIN SPEC 52407:2015-03 Nanotechnologien - Methoden zur Vorbereitung und Auswertung für Partikelmessungen mit Rasterkraftmikroskopie (AFM) und Transmissionsrasterelektronenmikroskopie (TSEM)

RU-GOST R, Rasterkraft-Nahfeldmikroskopie

  • GOST 8.593-2009 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methode zur Überprüfung
  • GOST R 8.635-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methode zur Kalibrierung
  • GOST R 8.593-2009 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methode zur Überprüfung
  • GOST R ISO 27911-2015 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Chemische Oberflächenanalyse. Rastersondenmikroskopie. Definition und Kalibrierung der lateralen Auflösung eines optischen Nahfeldmikroskops
  • GOST R 8.630-2007 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Rasterkraft-Rastersondenmikroskope. Methoden zur Überprüfung
  • GOST R 8.700-2010 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Methode zur Messung der effektiven Höhe der Oberflächenrauheit mittels Rasterkraftmikroskop




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