Oberflächenplasmonentechnologie

Für die Oberflächenplasmonentechnologie gibt es insgesamt 59 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Oberflächenplasmonentechnologie die folgenden Kategorien: Metallkorrosion, analytische Chemie, Optoelektronik, Lasergeräte, Ventil, Textilprodukte, Land-und Forstwirtschaft, Luft- und Raumfahrtsysteme und Betriebsgeräte, Prüfung von Metallmaterialien, Oberflächenbehandlung und Beschichtung, Medizinische Wissenschaften und Gesundheitsgeräte integriert, Halbleitermaterial, Wasserqualität, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Physik Chemie, schwarzes Metall, Keramik, Umweltschutz, Elektrotechnik umfassend, Umfangreiche elektronische Komponenten, Nichteisenmetalle, Kernenergietechnik.

Group Standards of the People's Republic of China, Oberflächenplasmonentechnologie

T/CSCP 0042-2019 Elektrolytische Oberflächenvorbereitung mit Kathodenplasma – Technische Spezifikation für die Reinigung von Metalloberflächen
T/CSCP 0043-2019 Kathodenplasmaelektrolytische Oberflächenvorbereitung – Technische Spezifikation für die Abscheidung metallischer Beschichtungen
T/CBMCA 032-2022 Technische Spezifikation für die Anwendung von Oberflächenbeschichtungsmaterialien mit negativen Ionen
T/SAASS 121-2023 Technische Vorschriften zur Keimungsprüfung von mit Kaltplasma behandelten Tomatensamen
T/CASAS 032-2023 Testmethode für den Gehalt an Metallelementen auf der Oberfläche von Siliziumkarbid-Wafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
T/CIMA 0023-2020 Technische Anforderungen an ein in einem Fahrzeug montiertes induktiv gekoppeltes Plasma-Quadrupol-Massenspektrometer
T/SZSMDA 006-2023 Technische Standards für die Coblation-Therapie bei pädiatrischer Adenoid- und Mandelhypertrophie

International Organization for Standardization (ISO), Oberflächenplasmonentechnologie

ISO 24465:2023 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Mindestnachweisbarkeit eines Oberflächenplasmonresonanzgeräts
ISO 7875-1:1996/cor 1:2003 Wasserqualität – Bestimmung von Tensiden – Teil 1: Bestimmung von anionischen Tensiden durch Messung des Methylenblau-Index (MBAS); Technische Berichtigung 1
ISO/TS 13278:2017 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO 21859:2019 Feinkeramik (Hochleistungskeramik, technische Hochleistungskeramik) – Prüfverfahren für die Plasmabeständigkeit keramischer Komponenten in Halbleiterfertigungsanlagen
ISO/TS 19590:2017 Nanotechnologien – Größenverteilung und Konzentration anorganischer Nanopartikel in wässrigen Medien mittels Einzelpartikel-Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO 26062:2010 Kerntechnik - Kernbrennstoffe - Verfahren zur Messung elementarer Verunreinigungen in uran- und plutoniumbasierten Materialien mittels induktiv gekoppelter Plasma-Massenspektrometrie

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Oberflächenplasmonentechnologie

KS C 7105-2007 Plasma-Anzeigetafeln – Methode zur Messung der Glasoberflächentemperatur auf PDP-Modulen

Professional Standard - Machinery, Oberflächenplasmonentechnologie

JB/T 6438-1992 Plasmalichtbogen-Auftragsschweißen für die Dichtfläche von Ventilen. Technische Anforderungen
JB/T 6438-2011 Technische Anforderungen an das Plasmalichtbogen-Auftragsschweißen der Ventildichtfläche
JB/T 8927-1999 Plasmaverstärkende elektrochemische Keramikbeschichtungen (PECC)/organische Beschichtungen auf Aluminium und Aluminiumlegierungen

海关总署, Oberflächenplasmonentechnologie

SN/T 5287-2021 Bestimmung von Bisphenol A in importierten und exportierten Textilien mittels Oberflächenplasmonresonanzmethode
SN/T 5286-2021 Bestimmung von Dimethylfumarat in importierten und exportierten Textilien mittels Oberflächenplasmonresonanzmethode

机械工业部, Oberflächenplasmonentechnologie

JB/T 7502-1994 Technische Anforderungen für die Oberflächenqualitätskontrolle von Teilen vor der Ionenplattierung

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Oberflächenplasmonentechnologie

GB/T 41458-2022 Weltraumumgebung – Plasmaumgebungen zur Erzeugung von Worst-Case-Oberflächenpotentialdifferenzen für Raumfahrzeuge
GB/T 39145-2020 Testmethode für den Gehalt an Oberflächenmetallelementen auf Siliziumwafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 38261-2019 Nanotechnologie – Bestimmung des Silbergehalts in biologischen Proben – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Oberflächenplasmonentechnologie

GB/T 24916-2010 Oberflächenbehandlungslösung.Bestimmung des Metallelementgehalts.Induktiv gekoppeltes Plasma-Atomemissionsspektrometerverfahren
GB/T 24582-2023 Bestimmung des Metallverunreinigungsgehalts auf der Polysiliciumoberfläche durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma und Säurelaugung
GB/T 29849-2013 Testverfahren zur Messung der metallischen Oberflächenkontamination von Siliziummaterialien, die für Photovoltaikanwendungen verwendet werden, mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 42240-2022 Nanotechnologie – Messung metallischer Verunreinigungen in Graphenpulver – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 38261-2019(英文版) Nanotechnologie – Bestimmung des Silbergehalts in biologischen Proben – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 24514-2009 Zink- und/oder aluminiumbasierte Beschichtungen auf Stahl. Bestimmung der Beschichtungsmasse pro Flächeneinheit und der chemischen Zusammensetzung. Gravimetrie, Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma und Flammenatomabsorptionsspektrometrie
GB/T 42732-2023 Größenverteilung und Konzentrationsmessung anorganischer Nanopartikel in wässrigen Phasen in der Nanotechnologie durch Einzelpartikel-Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Professional Standard - Commodity Inspection, Oberflächenplasmonentechnologie

SN/T 4240-2015 Elektrische und elektronische Produkte. Bestimmung von Blei und Cadmium in vernickelten Metalloberflächen. Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

German Institute for Standardization, Oberflächenplasmonentechnologie

DIN 51456:2013-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
DIN 51456:2013 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
DIN 50451-4:2024-01 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spurenelementen in Flüssigkeiten – Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in Reinstwasser mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) / Hinweis: Ausgabedatum 24.11.2023*Int ...

Standard Association of Australia （SAA）, Oberflächenplasmonentechnologie

AS 4873.1:2005 Empfohlene Praxis für induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie (ICP-MS) – Prinzipien und Techniken

RO-ASRO, Oberflächenplasmonentechnologie

STAS 10938-1983 Oberflächenmittel ETHOXILIERTE NICHTIONISCHE MITTEL AUF BASIS VON FETTALKOHOLEN Allgemeine technische Anforderungen an die Qualität

American Society for Testing and Materials (ASTM), Oberflächenplasmonentechnologie

ASTM D4190-08 Standardtestmethode für Elemente in Wasser durch Gleichstrom-Argonplasma-Atomemissionsspektroskopie
ASTM D4190-99 Standardtestmethode für Elemente in Wasser durch Gleichstrom-Argonplasma-Atomemissionsspektroskopie
ASTM E1613-99 Standardtestmethode zur Bestimmung von Blei durch Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-AES), Flammen-Atomabsorptionsspektrometrie (FAAS) oder Graphitofen-Atomabsorptionsspektrometrie (GFAAS).
ASTM E1613-04 Standardtestmethode zur Bestimmung von Blei durch Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-AES), Flammen-Atomabsorptionsspektrometrie (FAAS) oder Graphitofen-Atomabsorptionsspektrometrie (GFAAS).

未注明发布机构, Oberflächenplasmonentechnologie

DIN 51456 E:2012-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Oberflächenplasmonentechnologie

GB/T 35418-2017 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

GOSTR, Oberflächenplasmonentechnologie

PNST 499-2020 Nanotechnologien. Kohlenstoffnanoröhren. Bestimmung chemischer Elementverunreinigungen durch induktiv gekoppeltes Plasma-Massenspektrometrieverfahren

British Standards Institution (BSI), Oberflächenplasmonentechnologie

PD ISO/TS 13278:2017 Nanotechnologien. Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
BS PD ISO/TS 13278:2017 Nanotechnologien. Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
BS DD ISO/TS 13278:2011 Nanotechnologien. Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
BS EN 62321-5:2014 Bestimmung bestimmter Stoffe in elektrotechnischen Produkten. Cadmium, Blei und Chrom in Polymeren und Elektronik sowie Cadmium und Blei in Metallen durch AAS, AFS, ICP-OES und ICP-MS
BS ISO 21859:2019 Feinkeramik (Hochleistungskeramik, technische Hochleistungskeramik). Prüfverfahren für die Plasmabeständigkeit keramischer Komponenten in Halbleiterfertigungsanlagen

Association Francaise de Normalisation, Oberflächenplasmonentechnologie

XP ISO/TS 13278:2018 Nanotechnologien – Bestimmung von Verunreinigungen in Kohlenstoffnanoröhrenproben (CNT) mittels induzierter Plasmamassenspektroskopie (ICP-MS)
XP T16-207*XP ISO/TS 13278:2018 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
XP T16-401*XP CEN ISO/TS 19590:2019 Nanotechnologien – Größenverteilung und Konzentration anorganischer Nanopartikel in wässrigen Medien mittels Einzelpartikel-Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
NF ISO 26062:2010 Kerntechnik – Kernbrennstoffe – Verfahren zur Messung elementarer Verunreinigungen in Uran- und Plutoniummaterialien durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
NF C05-100-4*NF EN 62321-4:2014 Bestimmung bestimmter Stoffe in elektrotechnischen Produkten – Teil 4: Quecksilber in Polymeren, Metallen und Elektronik mittels CV-AAS, CV-AFS, ICP-OES und ICP-MS

International Electrotechnical Commission (IEC), Oberflächenplasmonentechnologie

ISO/TS 13278:2011 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO/TS 13278:2011 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO TS 13278:2011 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

RU-GOST R, Oberflächenplasmonentechnologie

GOST R ISO 17925-2012 Beschichtungen auf Stahlbasis auf Zink- und/oder Aluminiumbasis. Bestimmung der chemischen Zusammensetzung und der Beschichtungsmasse pro Flächeneinheit. Gravimetrie, Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma und Methoden der Flammen-Atomabsorptionsspektrometrie

Danish Standards Foundation, Oberflächenplasmonentechnologie

DS/ISO/TS 13278:2012 Nanotechnologien – Bestimmung elementarer Verunreinigungen in Proben von Kohlenstoffnanoröhren mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

CEN - European Committee for Standardization, Oberflächenplasmonentechnologie

CEN ISO/TS 19590:2019 Nanotechnologien – Größenverteilung und Konzentration anorganischer Nanopartikel in wässrigen Medien mittels Einzelpartikel-Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma