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Producción de películas conductoras.

Producción de películas conductoras., Total: 360 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en Producción de películas conductoras. son: Producción en la industria química., ingeniería de energía solar, Circuitos integrados. Microelectrónica, Productos de la industria textil., Vaso, Procesos de fabricación en las industrias del caucho y del plástico., Circuitos impresos y placas., Calzado, Conjuntos de componentes electrónicos., Óptica y medidas ópticas., Dispositivos de visualización electrónica., pruebas de metales, Equipos para la industria del caucho y del plástico., Materiales semiconductores, Fluidos aislantes, Electricidad. Magnetismo. Mediciones eléctricas y magnéticas., Ingeniería de energía y transferencia de calor en general., Símbolos gráficos, Dispositivos semiconductores, Condensadores, Resistencias, Materiales conductores, Pilas y baterías galvánicas., Materiales aislantes, Componentes electromecánicos para equipos electrónicos y de telecomunicaciones., Tecnología de vacío, Sistemas de turbinas eólicas y otras fuentes alternativas de energía., Protección del medio ambiente, Pinturas y barnices, ingenieria de energia hidraulica, ingenieria electrica en general, Dispositivos piezoeléctricos y dieléctricos., Cerámica, Redes de transmisión y distribución de energía., Soldadura, soldadura fuerte y soldadura fuerte., Tratamiento superficial y revestimiento., Construcción hidráulica, Adhesivos, Sistemas de vehículos de carretera, Geología. Meteorología. Hidrología, Productos de metales no ferrosos., Productos de hierro y acero., Equipo de trabajo sin chip.


Group Standards of the People's Republic of China, Producción de películas conductoras.

  • T/QGCML 855-2023 Película de baja conductividad térmica y dieléctrico bajo.
  • T/CIET 190-2023 Directrices para la evaluación de la huella de carbono de productos de células solares de película delgada
  • T/ZBH 022-2023 Vidrio conductor transparente de óxido (SnO2:F) para células solares de película fina
  • T/CI 006-2021 Película endurecida conductora de pantalla táctil flexible/plegable
  • T/CEC 470-2021 Directrices para la selección de módulos de película delgada para sistemas de generación de energía fotovoltaica domésticos
  • T/CSTM 00591-2022 Medición de la conductividad de materiales de película de grafeno-cobre: método de Van der Pauw
  • T/SA 49-2022 Especificación técnica para equipos de producción de diafragmas de baterías de litio.
  • T/GVS 005-2022 Especificación de prueba para el método de contraste del vacuómetro de diafragma de capacitancia de presión absoluta en equipos semiconductores
  • T/CESA 1032-2019 Especificación técnica para la evaluación de productos de diseño ecológico: condensador de película metalizada
  • T/ATCRR 21-2020 Directrices para la evaluación de la responsabilidad ampliada del productor de productos eléctricos y electrónicos
  • T/DZJN 98-2022 Directrices para la evaluación de la huella de carbono de productos de pilas de combustible de membrana de intercambio de protones
  • T/CSEE 0325-2022 Directrices técnicas para torres de medición eólica en la producción y operación de parques eólicos
  • T/CEC 723-2022 Lineamientos para la post-evaluación de proyectos de transformación de tecnologías de producción de redes eléctricas
  • T/SASE 005-2022 Especificación de producción de soldadura TIG en tándem de tubos de acero inoxidable de paredes delgadas
  • T/CEC 724-2022 Directrices para la revisión preliminar del diseño del proyecto de transformación de la tecnología de producción de la red eléctrica.
  • T/ZGM 013-2023 Especificaciones técnicas de certificación de productos de pilas de electrodosionización para agua ultrapura en la industria de semiconductores.

ECIA - Electronic Components Industry Association, Producción de películas conductoras.

  • 401-1973 Paper@ Paper/Film@ Condensadores dieléctricos de película para aplicaciones de semiconductores de potencia

British Standards Institution (BSI), Producción de películas conductoras.

  • BS IEC 60748-23-3:2002 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Circuitos integrados híbridos y estructuras cinematográficas. Certificación de línea de fabricación. Lista de verificación e informe de autoauditoría de los fabricantes
  • BS IEC 60748-23-1:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas - Certificación de línea de fabricación - Especificación genérica
  • 21/30434810 DC BS EN IEC 62899-202-8. Electrónica impresa - Parte 202-8. Materiales. Película conductora. Medición de la diferencia de resistencia con la dirección de impresión de una película conductora fabricada con materiales en forma de alambre.
  • BS IEC 60748-23-4:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas - Certificación de línea de fabricación - Especificación detallada en blanco
  • BS IEC 60748-23-5:2003 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados - Circuitos integrados híbridos y estructuras cinematográficas. Certificación de línea de fabricación. Procedimiento para la aprobación de la calificación.
  • BS IEC 60748-23-2:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas - Certificación de líneas de fabricación - Inspección visual interna y pruebas especiales
  • BS IEC 60748-23-5:2004 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas - Certificación de línea de fabricación - Procedimiento para la aprobación de la calificación
  • BS IEC 62899-202-3:2019 Electrónica impresa - Materiales. Tinta conductora. Medición de la resistencia laminar de películas conductoras. Método sin contacto
  • BS EN 62047-22:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de prueba de tracción electromecánica para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • BS IEC 62047-29:2017 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos: método de prueba de relajación electromecánica para películas delgadas conductoras independientes a temperatura ambiente
  • BS IEC 62951-6:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables: método de prueba para la resistencia laminar de películas conductoras flexibles
  • 18/30366168 DC BS EN 62899-202-6. Electrónica impresa. Parte 202-6. Materiales. Película conductora. Prueba ambiental de una capa conductora impresa a base de metal sobre sustrato flexible
  • BS EN 140101-806:2008 Especificación detallada - Resistencias de película fijas de baja potencia - Resistencias de película metálica en cables cerámicos de alta calidad, moldeados o con revestimiento conformado, axiales o preformados
  • BS EN 62047-3:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Pieza de prueba estándar de película delgada para ensayos de tracción
  • BS IEC 62047-30:2017 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos: métodos de medición de las características de conversión electromecánica de películas delgadas piezoeléctricas MEMS
  • BS EN 61788-17:2013 Superconductividad. Medidas características electrónicas. Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie.
  • BS EN 61249-5-4:1997 Materiales para estructuras de interconexión. Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento. Tintas conductoras
  • BS EN 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
  • BS EN 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada
  • BS EN IEC 61788-17:2021 Cambios rastreados. Superconductividad. Medidas características electrónicas. Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie.
  • BS IEC 62047-37:2020 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos: métodos de prueba ambientales de películas delgadas piezoeléctricas MEMS para aplicaciones de sensores
  • BS IEC 62951-1:2017 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables: método de prueba de flexión para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles
  • BS IEC 62047-36:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos: métodos de prueba de resistencia ambiental y dieléctrica para películas delgadas piezoeléctricas MEMS
  • BS QC 760200:1997 Sistema armonizado de evaluación de la calidad de los componentes electrónicos. Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Especificación seccional para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad.
  • BS QC 760100:1997 Sistema armonizado de evaluación de la calidad de los componentes electrónicos. Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Especificación seccional para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de calificación
  • BS EN 62047-21:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de prueba para la relación de Poisson de materiales MEMS de película delgada
  • BS EN 62047-6:2010 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Métodos de ensayo de fatiga axial de materiales de película delgada
  • BS QC 760201:1997 Sistema armonizado de evaluación de la calidad de los componentes electrónicos. Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Especificación detallada en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad.
  • BS QC 760101:1997 Sistema armonizado de evaluación de la calidad de los componentes electrónicos. Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Especificación detallada en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de procedimientos de aprobación de calificación
  • BS EN 62374:2008 Dispositivos semiconductores. Prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • BS EN 62374:2007 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • BS IEC 62951-4:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables: evaluación de la fatiga de una película delgada conductora flexible sobre el sustrato para dispositivos semiconductores flexibles
  • BS EN 61249-8-7:1997 Materiales para estructuras de interconexión. Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores. Tintas de leyenda de marcado
  • 19/30391554 DC BS EN 61788-17. Superconductividad. Parte 17. Medidas características electrónicas. Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie.
  • BS EN 62047-14:2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.
  • BS EN 61249-8-8:1997 Materiales para estructuras de interconexión. Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores. Recubrimientos temporales de polímeros
  • BS EN 62047-8:2011 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de prueba de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas
  • BS EN 62047-17:2015 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de prueba de abultamiento para medir las propiedades mecánicas de películas delgadas.
  • BS IEC 62899-503-1:2020 Electrónica impresa - Evaluación de calidad. Método de prueba para medir la corriente de desplazamiento para un transistor de película delgada impreso
  • BS IEC 62899-503-3:2021 Electrónica impresa. Evaluación de calidad. Método de medición de la resistencia de contacto para el transistor de película delgada impreso. Método de longitud de transferencia
  • BS EN 62047-12:2011 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Método de prueba de fatiga por flexión de materiales de película delgada utilizando vibración resonante de estructuras MEMS
  • 18/30383935 DC BS EN IEC 62047-37. Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 37. Métodos de prueba ambientales de películas delgadas piezoeléctricas MEMS para aplicaciones de sensores
  • BS EN 165000-4:1996 Cine y circuitos integrados híbridos. Información del cliente, cronogramas de niveles de evaluación de productos y especificaciones detalladas en blanco.
  • PD ISO/TS 7637-4:2020 Vehiculos de carretera. Perturbación eléctrica por conducción y acoplamiento. Conducción eléctrica transitoria únicamente a lo largo de líneas de suministro de alto voltaje blindadas
  • BS EN 60384-2:2012 Condensadores fijos para uso en equipos electrónicos. Especificación seccional. Condensadores de CC dieléctricos de película de tereftalato de polietileno metalizado fijo
  • BS EN 61249-5-1:1996 Materiales para estructuras de interconexión. Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento. Láminas de cobre (para la fabricación de materiales base revestidos de cobre)

IT-UNI, Producción de películas conductoras.

  • UNI 7577-1976 Textiles de película. Caracterización de textiles a partir de películas y productos manufacturados más habituales.

United States Navy, Producción de películas conductoras.

American National Standards Institute (ANSI), Producción de películas conductoras.

  • ANSI/SPI B151.20-1999 Maquinaria para bobinar películas y láminas de plástico: fabricación, cuidado y uso
  • ANSI/SPI B151.5-2000 Maquinaria para bobinar películas y láminas de plástico: fabricación, cuidado y uso
  • ANSI/EIA 401:1973 Condensadores dieléctricos de papel, papel/película para aplicaciones de semiconductores de potencia

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Producción de películas conductoras.

  • KS C IEC 61249-5-4-2003(2019) Materiales de estructura de interconexión Parte 5: Especificaciones detalladas para películas delgadas conductoras y películas recubiertas y no recubiertas 4: Tintas conductoras
  • KS C IEC 60748-23-3:2004 Dispositivos semiconductores-Circuitos integrados-Parte 23-3: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas-Certificación de línea de fabricación-Lista de verificación e informe de autoauditoría de los fabricantes
  • KS C IEC 60748-23-1:2004 Dispositivos semiconductores-Circuitos integrados-Parte 23-1: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas-Certificación de línea de fabricación-Especificación genérica
  • KS C IEC 60748-23-1-2004(2019) Dispositivos semiconductores-Circuitos integrados-Parte 23-1:Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas-Certificación de línea de fabricación-Especificación genérica
  • KS C IEC 60748-20:2021 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos.
  • KS L 1620-2013 Métodos de prueba para medir la resistividad de películas delgadas cerámicas eléctricamente conductoras con el método de Van der Pauw
  • KS L 1620-2003 Métodos de prueba para medir la resistividad de películas delgadas cerámicas eléctricamente conductoras con el método de Van der Pauw
  • KS C IEC 60748-20-1:2003 Dispositivos semiconductores-Circuitos integrados-Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbrida-Sección 1: Requisitos para el examen visual interno
  • KS C IEC 60748-20:2003 Dispositivos semiconductores -Circuitos integrados-Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos
  • KS C IEC 60748-20:2019 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos.
  • KS C IEC 60748-2-20:2019 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos.
  • KS L 1619-2013(2018) Métodos de prueba para la resistividad de películas delgadas cerámicas conductoras con una matriz de sondas de cuatro puntos
  • KS L 1619-2013 Métodos de prueba para la resistividad de películas delgadas cerámicas conductoras con una matriz de sondas de cuatro puntos
  • KS L 1619-2003 Métodos de prueba para medir la resistividad de películas delgadas cerámicas eléctricamente conductoras con el método de sonda de cuatro puntos
  • KS C IEC 60748-23-3-2004(2019) Dispositivos semiconductores-Circuitos integrados-Parte 23-3:Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas-Certificación de línea de fabricación-Lista de verificación e informe de autoauditoría de los fabricantes
  • KS C 6111-4-2007(2022) Homogeneidad en la resistencia superficial de grandes películas superconductoras de alta Tc en frecuencias de microondas
  • KS L 1620-2013(2018) Métodos de prueba para medir la resistividad de películas delgadas cerámicas eléctricamente conductoras con el método de Van der Pauw
  • KS C 6111-4-2007 Homogeneidad en la resistencia superficial de grandes películas superconductoras de alta Tc en frecuencias de microondas
  • KS C IEC 61249-5-4:2003 Material para estructuras de interconexión. Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con o sin recubrimiento. Sección 4: Tintas conductoras.
  • KS C IEC 61249-5-1:2003 Materiales para estructuras de interconexión -Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas conductoras y películas con y sin revestimiento -Sección 1: Láminas de cobre (para la fabricación de materiales base revestidos de cobre)
  • KS C 6111-3-2007 Mediciones características electrónicas: impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras de alto TC en frecuencias de microondas
  • KS C IEC 60748-20-1-2003(2019) Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos. Sección 1: Requisitos para el examen visual interno.
  • KS C IEC 62047-18:2016 Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C IEC 62047-22:2016 Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C IEC 62047-18-2016(2021) Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C 6111-3-2007(2017) Mediciones características electrónicas: impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras de alto TC en frecuencias de microondas
  • KS C IEC 62047-22-2016(2021) Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C IEC 61788-17:2020 Superconductividad. Parte 17: Mediciones características electrónicas. Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie.
  • KS C IEC 62951-1:2022 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables. Parte 1: Método de prueba de flexión para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • KS C IEC 62047-8:2015 Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 8: Método de prueba de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas
  • KS C IEC 62047-8-2015(2020) Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 8: Método de prueba de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas
  • KS D 3516-2007 Hojalata electrolítica reducida en frío y chapa negra reducida en frío en forma de bobina para la producción de hojalata

German Institute for Standardization, Producción de películas conductoras.

  • DIN EN 165000-3:1996 Circuitos integrados híbridos y de películas. Parte 3: Lista de verificación e informe de autoauditoría para fabricantes de circuitos integrados híbridos y de películas; Versión alemana EN 165000-3:1996
  • DIN EN 61249-5-1:1996 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento; sección 1: Láminas de cobre (para el fabricante de materiales base revestidos de cobre) (IEC 61249-5-1:1995); Versión alemana ES 6
  • DIN EN 62374:2008-02 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta (IEC 62374:2007); Versión alemana EN 62374:2007
  • DIN 58739-2:2002-01 Producción en ingeniería óptica - Alojamientos de piezas para óptica - Parte 2: Mandriles con membranas
  • DIN EN 140101-806:2008 Especificación detallada: Resistencias de película fijas de baja potencia: resistencias de película metálica en cables cerámicos de alta calidad, recubiertos o moldeados, axiales o preformados; Versión alemana EN 140101-806:2008
  • DIN 41850-2:1985 Circuitos integrados cinematográficos y híbridos; Materiales, métodos para la evaluación de pastas conductoras.
  • DIN EN 61249-5-4:1997 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con o sin revestimiento; sección 4: Tintas conductoras (IEC 61249-5-4:1996); Versión alemana EN 61249-5-4:1996
  • DIN EN 62047-2:2007-02 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 2: Método de ensayo de tracción de materiales de película delgada (IEC 62047-2:2006); Versión alemana EN 62047-2:2006
  • DIN EN 62047-22:2015-04 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 22: Método de prueba de tracción electromecánica para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles (IEC 62047-22:2014); Versión alemana EN 62047-22:2014
  • DIN EN 62374:2008 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta (IEC 62374:2007); Versión alemana EN 62374:2007
  • DIN EN 62047-3:2007-02 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 3: Pieza de prueba estándar de película delgada para ensayos de tracción (IEC 62047-3:2006); Versión alemana EN 62047-3:2006
  • DIN EN 62047-18:2014-04 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada (IEC 62047-18:2013); Versión alemana EN 62047-18:2013
  • DIN EN 62047-3:2007 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 3: Pieza de prueba estándar de película delgada para ensayos de tracción (IEC 62047-3:2006); Versión alemana EN 62047-3:2006
  • DIN EN 62047-2:2007 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 2: Método de ensayo de tracción de materiales de película delgada (IEC 62047-2:2006); Versión alemana EN 62047-2:2006
  • DIN EN 62047-6:2010-07 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 6: Métodos de ensayo de fatiga axial de materiales de película delgada (IEC 62047-6:2009); Versión alemana EN 62047-6:2010
  • DIN EN 140101-806:2014 Especificación detallada: Resistencias de película fijas de baja potencia: resistencias de película metálica en cables cerámicos de alta calidad, recubiertos o moldeados, axiales o preformados; Versión alemana 140101-806:2008 + A1:2013
  • DIN EN 62047-22:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 22: Método de prueba de tracción electromecánica para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles (IEC 62047-22:2014); Versión alemana EN 62047-22:2014
  • DIN EN 62047-17:2015-12 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 17: Método de prueba de abombamiento para medir las propiedades mecánicas de películas delgadas (IEC 62047-17:2015); Versión alemana EN 62047-17:2015
  • DIN EN 62047-14:2012-10 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica (IEC 62047-14:2012); Versión alemana EN 62047-14:2012
  • DIN EN 61249-8-7:1997 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 8: Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores; sección 7: Tintas para leyendas de marcado (IEC 61249-8-7:1996); Versión alemana EN 61249-8-7:1996
  • DIN EN 61249-5-4:1997-02 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con o sin revestimiento; sección 4: Tintas conductoras (IEC 61249-5-4:1996); Versión alemana EN 61249-5-4:1996
  • DIN EN 62047-21:2015-04 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 21: Método de prueba para la relación de Poisson de materiales MEMS de película delgada (IEC 62047-21:2014); Versión alemana EN 62047-21:2014
  • DIN EN 62047-8:2011-12 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 8: Método de prueba de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas (IEC 62047-8:2011); Versión alemana EN 62047-8:2011
  • DIN EN 61788-15:2012 Superconductividad - Parte 15: Mediciones características electrónicas - Impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras en frecuencias de microondas (IEC 61788-15:2011); Versión alemana EN 61788-15:2011
  • DIN EN 13602:2002 Cobre y aleaciones de cobre - Alambre de cobre redondo trefilado para la fabricación de conductores eléctricos; Versión alemana EN 13602:2002
  • DIN EN 13602:2013 Cobre y aleaciones de cobre - Alambre de cobre redondo trefilado para la fabricación de conductores eléctricos; Versión alemana EN 13602:2013
  • DIN EN 10205:1992 Chapa negra reducida en frío en forma de bobina para la producción de hojalata o acero recubierto de cromo/óxido de cromo electrolítico; versión alemana EN 10205:1991
  • DIN EN 61788-17:2013 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie (IEC 61788-17:2013); Versión alemana EN 61788-17:2013
  • DIN EN 62047-12:2012-06 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 12: Método de prueba de fatiga por flexión de materiales de película delgada utilizando vibración resonante de estructuras MEMS (IEC 62047-12:2011); Versión alemana EN 62047-12:2011
  • DIN EN 165000-4:1996 Circuitos integrados híbridos y de película - Parte 4: Información del cliente, cronogramas de niveles de evaluación del producto y especificaciones detalladas en blanco; Versión alemana EN 165000-4:1996
  • DIN EN 165000-4:1996-11 Circuitos integrados híbridos y de película - Parte 4: Información del cliente, cronogramas de niveles de evaluación del producto y especificaciones detalladas en blanco; Versión alemana EN 165000-4:1996
  • DIN EN 61249-8-8:1998 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 8: Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores; Sección 8: Recubrimientos poliméricos temporales (IEC 61249-8-8:1997); Versión alemana EN 61249-8-8:1997
  • DIN EN 140101-806 Berichtigung 1:2010 Especificación detallada: Resistencias de película fijas de baja potencia: resistencias de película metálica en cables cerámicos de alta calidad, recubiertos o moldeados, axiales o preformados; Versión alemana EN 140101-806:2008, corrección de errores según DIN EN 140101-806:2008-08; Versión alemana CENELEC-Co
  • DIN EN 62047-21:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 21: Método de prueba para la relación de Poisson de materiales MEMS de película delgada (IEC 62047-21:2014); Versión alemana EN 62047-21:2014
  • DIN EN 61249-8-7:1997-02 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 8: Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores; sección 7: Tintas para leyendas de marcado (IEC 61249-8-7:1996); Versión alemana EN 61249-8-7:1996

International Electrotechnical Commission (IEC), Producción de películas conductoras.

  • IEC 60748-23-3:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-3: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas; Certificación de línea de fabricación; Lista de verificación e informe de autoauditoría de los fabricantes
  • IEC 60748-23-1:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-1: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas; Certificación de línea de fabricación; Especificación genérica
  • IEC 60748-23-5:2003 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-5: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas; Certificación de línea de fabricación; Procedimiento para la aprobación de la calificación.
  • IEC 60748-23-4:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-4: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas; Certificación de línea de fabricación; Especificación de detalle en blanco
  • IEC 60748-20:1988/AMD1:1995 Enmienda 1 - Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos
  • IEC 60748-23-2:2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-2: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas; Certificación de línea de fabricación; Inspección visual interna y pruebas especiales.
  • IEC 61249-5-1:1995 Materiales para estructuras de interconexión - Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas conductoras y películas con y sin revestimiento - Sección 1: Láminas de cobre (para la fabricación de materiales base revestidos de cobre)
  • IEC 62047-29:2017 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 29: Método de prueba de relajación electromecánica para películas delgadas conductoras independientes a temperatura ambiente.
  • IEC 62047-22:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 22: Método de ensayo de tracción electromecánico para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • IEC 62951-6:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables. Parte 6: Método de prueba para la resistencia laminar de películas conductoras flexibles.
  • IEC 62374:2007 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • IEC 60748-22-1:1991 Dispositivos semiconductores; circuitos integrados; parte 22: sección 1: especificación detallada en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad
  • IEC 61788-15:2011 Superconductividad - Parte 15: Mediciones características electrónicas - Impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras en frecuencias de microondas
  • IEC 61788-17:2013 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • IEC 61788-17:2021 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • IEC 61249-5-4:1996 Materiales para estructuras de interconexión - Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con o sin recubrimiento - Sección 4: Tintas conductoras
  • IEC 61788-17:2021 RLV Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • IEC 62047-30:2017 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 30: Métodos de medición de las características de conversión electromecánica de película delgada piezoeléctrica MEMS
  • IEC 62951-1:2017 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables. Parte 1: Método de prueba de flexión para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • IEC 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada
  • IEC 62047-3:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 3: Pieza de prueba estándar de película delgada para ensayos de tracción
  • IEC 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
  • IEC 62951-4:2019 Dispositivos semiconductores - Dispositivos semiconductores flexibles y estirables - Parte 4: Evaluación de la fatiga para una película delgada conductora flexible sobre el sustrato para dispositivos semiconductores flexibles
  • IEC 62047-36:2019 Dispositivos semiconductores – Dispositivos microelectromecánicos – Parte 36: Métodos de prueba de resistencia ambiental y dieléctrica para películas delgadas piezoeléctricas MEMS
  • IEC 62047-37:2020 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 37: Métodos de prueba ambientales de películas delgadas piezoeléctricas MEMS para aplicaciones de sensores
  • IEC 62047-6:2009 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 6: Métodos de ensayo de fatiga axial de materiales de película delgada.
  • IEC 62047-21:2014 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 21: Método de prueba para la relación de Poisson de materiales MEMS de película delgada
  • IEC 62047-14:2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.
  • IEC 61249-8-7:1996 Materiales para estructuras de interconexión - Parte 8: Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores - Sección 7: Tintas para leyendas de marcado
  • IEC 62047-17:2015 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 17: Método de prueba de abombamiento para medir las propiedades mecánicas de películas delgadas.
  • IEC 62047-8:2011 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 8: Método de ensayo de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas.
  • IEC 62830-5:2021 Dispositivos semiconductores - Dispositivos semiconductores para recolección y generación de energía - Parte 5: Método de prueba para medir la energía generada a partir de dispositivos termoeléctricos flexibles
  • IEC 62047-12:2011 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 12: Método de prueba de fatiga por flexión de materiales de película delgada utilizando vibración resonante de estructuras MEMS

Defense Logistics Agency, Producción de películas conductoras.

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  • GB/T 32356-2015
  • GB/T 30116-2013 Requisitos para la compatibilidad electromagnética de las instalaciones de fabricación de semiconductores
  • GB/T 42312-2023 Directrices para la elaboración de planes de emergencia de seguridad en la producción de centrales eléctricas de almacenamiento de energía electroquímica.
  • GB/T 21474-2008 Guía para la evaluación del sistema de reutilización y reciclaje de residuos de aparatos eléctricos y electrónicos

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  • NB/T 10827-2021 Método de prueba para la conductividad iónica de películas delgadas de baterías eléctricas.
  • NB/T10827-2021 Método de prueba para la conductividad iónica de películas delgadas de baterías eléctricas.
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  • KS C IEC 60748-2-20-2019 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos.
  • KS C IEC 60748-20-2019 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos.
  • KS C IEC 62047-18-2016 Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C IEC 62047-22-2016 Dispositivos semiconductores ― Dispositivos microelectromecánicos ― Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada
  • KS C IEC 61788-17-2020 Superconductividad. Parte 17: Mediciones características electrónicas. Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie.
  • KS C IEC 62951-1-2022 Dispositivos semiconductores. Dispositivos semiconductores flexibles y estirables. Parte 1: Método de prueba de flexión para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.

Danish Standards Foundation, Producción de películas conductoras.

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  • DS/IEC 748-21-1:1993
  • DS/IEC 748-22-1:1993 Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 22: Sección uno: Especificaciones detalladas en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad.
  • DS/EN IEC 61788-17:2021 Superconductividad – Parte 17: Medidas características electrónicas – Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • DS/EN 61788-15:2012
  • DS/EN 62047-2:2007
  • DS/EN 62047-3:2007
  • DS/EN 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
  • DS/EN 61788-17:2013 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • DS/EN 62047-6:2010
  • DS/EN 61249-5-4:1998
  • DS/EN 62047-14:2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.
  • DS/EN 62047-8:2011
  • DS/EN 61249-8-7:1998
  • DS/ISO 7637-2:2021 Vehículos de carretera. Perturbaciones eléctricas debidas a la conducción y al acoplamiento. Parte 2: Conducción eléctrica transitoria únicamente a lo largo de líneas de suministro.
  • DS/EN 61249-8-8:1998
  • DS/EN 62047-12:2012
  • DS/EN 165000-4:1997 Circuitos integrados híbridos y de película. Parte 4: Información del cliente, cronogramas de niveles de evaluación del producto y especificaciones detalladas en blanco.

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, Producción de películas conductoras.

  • GJB 76.4-1985 Alambre y cable aislados con película de poliimida para aviación, núcleo de aluminio PI/F46, alambre enfundado con cinta cruda F4 aislada
  • GJB 76.5-1985 Alambre y cable aislados con película de poliimida para aviación, conductor de aleación de cobre plateado, alambre enfundado con pintura FI aislado PI/F46
  • GJB 76.3-1985 Alambre y cable aislados con película de poliimida para aviación, núcleo de cobre plateado PI/F46, alambre enfundado con cinta cruda F4 aislada
  • GJB 76.4A-2021 Alambres y cables aislados con película de poliimida para aviación Parte 4: Alambres enfundados con materia prima F4 aislados con núcleo de aluminio PI/F46
  • GJB 76.3A-2021 Alambres y cables aislados con película de poliimida para aviación Parte 3: Núcleo de cobre plateado PI/F46, materia prima F4 aislada con alambre enfundado

CZ-CSN, Producción de películas conductoras.

  • CSN IEC 748-20:1993 Dispositivos semiductores. Circuitos integrados. Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos
  • CSN 33 2210-1993
  • CSN 34 7021-2-1995 Ensayo sobre gases desprendidos durante la combustión de cables eléctricos Parte 2: Determinación del grado de acidez de los gases desprendidos durante la combustión de materiales extraídos de cables eléctricos midiendo el pH y la conductividad

未注明发布机构, Producción de películas conductoras.

  • BS IEC 60748-23-5:2003(2004) Dispositivos semiconductores. Circuitos integrados. Parte 23 - 5: Circuitos integrados híbridos y estructuras de películas. Certificación de la línea de fabricación. Procedimiento para la aprobación de la cualificación.
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European Committee for Electrotechnical Standardization(CENELEC), Producción de películas conductoras.

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  • EN 62047-22:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 22: Método de ensayo de tracción electromecánico para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • EN 61249-5-1:1996 Materiales para estructuras de interconexión Parte 5. Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento Sección 1. Láminas de cobre (para la fabricación de materiales base revestidos de cobre)
  • EN 62374:2007 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • EN 62047-18:2013 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: Métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
  • EN IEC 61788-17:2021 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • EN 61788-17:2013 Superconductividad - Parte 17: Medidas características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • EN 62047-3:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos Parte 3: Pieza de prueba estándar de película delgada para pruebas de tracción
  • EN 62047-21:2014 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 21: Método de prueba para la relación de Poisson de materiales MEMS de película delgada
  • EN 62047-6:2010 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 6: Métodos de ensayo de fatiga axial de materiales de película delgada.
  • EN 140101-806:2008 Especificación detallada: Resistencias de película fijas de baja potencia: resistencias de película metálica en cables cerámicos de alta calidad, recubiertos o moldeados, axiales o preformados (incorpora la Enmienda A1: 2013)
  • EN 62047-14:2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.
  • EN 61249-5-4:1996 Materiales para estructuras de interconexión Parte 5: Conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento Sección 4: Tintas conductoras
  • EN 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores Dispositivos microelectromecánicos Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada
  • EN 62047-17:2015 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 17: Método de prueba de abombamiento para medir las propiedades mecánicas de películas delgadas.
  • EN 62047-8:2011 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 8: Método de ensayo de flexión de tiras para medir la propiedad de tracción de películas delgadas.
  • EN 61249-8-7:1996 Materiales para estructuras de interconexión Parte 8: Conjunto de especificaciones seccionales para películas y revestimientos no conductores Sección 7: Tintas de leyenda de marcado

Professional Standard - Machinery, Producción de películas conductoras.

  • JB/T 56073.42-1999 Clasificación de calidad de productos de película de poliéster para aislamiento eléctrico.

American Society for Testing and Materials (ASTM), Producción de películas conductoras.

  • ASTM F1711-96(2002) Práctica estándar para medir la resistencia laminar de conductores de película delgada para la fabricación de pantallas planas utilizando una sonda de cuatro puntos
  • ASTM F1711-96 Práctica estándar para medir la resistencia laminar de conductores de película delgada para la fabricación de pantallas planas utilizando una sonda de cuatro puntos
  • ASTM F1711-96(2008) Práctica estándar para medir la resistencia laminar de conductores de película delgada para la fabricación de pantallas planas utilizando un método de sonda de cuatro puntos
  • ASTM D6343-14 Métodos de prueba estándar para materiales sólidos delgados térmicamente conductores para aislamiento eléctrico y aplicaciones dieléctricas
  • ASTM D823-18 Prácticas estándar para producir películas de espesor uniforme de pintura, revestimientos y productos relacionados en paneles de prueba
  • ASTM F1844-97(2016) Práctica estándar para medir la resistencia laminar de conductores de película delgada para la fabricación de pantallas planas utilizando un medidor de corrientes de Foucault sin contacto
  • ASTM F1711-96(2016) Práctica estándar para medir la resistencia laminar de conductores de película delgada para la fabricación de pantallas planas utilizando un método de sonda de cuatro puntos
  • ASTM D5895-01e1 Métodos de prueba estándar para medir los tiempos de secado o curado durante la formación de películas de recubrimientos orgánicos utilizando registradores mecánicos
  • ASTM D5895-96 Métodos de prueba estándar para medir los tiempos de secado o curado durante la formación de películas de recubrimientos orgánicos utilizando registradores mecánicos

VE-FONDONORMA, Producción de películas conductoras.

  • COVENIN 693-1974 CONDENSADORES CON DIELECTRICO DE PELICULA DE POLIESTER PARA CORRIENTE CONTINUA
  • NORVEN 64-10-1968 Varillas Cilindricas o Alambronos de Aluminio para Fabricación de Conductores Eléctricos

IECQ - IEC: Quality Assessment System for Electronic Components, Producción de películas conductoras.

  • QC 760000-1988 Circuitos integrados de dispositivos semiconductores Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos (IEC 748-20 ED 1)
  • QC 760200-1992 Circuitos integrados de dispositivos semiconductores Parte 22: Especificación seccional para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad (IEC 748-22 ED 1)
  • QC 760000-1990 Circuitos integrados de dispositivos semiconductores Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos (IEC 748-20: 1988; AMD 6754; septiembre de 1991; AMD 9331, 15 de enero de 1997)
  • QC 165000-2-2002 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 23-2: Circuitos integrados híbridos y estructuras de película - Certificación de línea de fabricación - Inspección visual interna y pruebas especiales (Primera edición; IEC 60748-23-2)
  • QC 763000-1994 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 20: Especificación genérica para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbrida - Sección 1: Requisitos para el examen visual interno (IEC 748-20-1 ED 1)
  • QC 760101-1991 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados Parte 21: Sección uno: Especificación detallada en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base del procedimiento de aprobación de calificación (IEC 748-21-1 ED 1)
  • QC 760201-1991 Circuitos integrados de dispositivos semiconductores Parte 22: Sección uno: Especificación detallada en blanco para circuitos integrados de película y circuitos integrados de película híbridos sobre la base de los procedimientos de aprobación de capacidad (IEC 748-22-1 ED l)
  • QC 760100-1997 Dispositivos semiconductores - Circuitos integrados - Parte 21: Especificación seccional para circuitos integrados de película sobre la base de procedimientos de aprobación de calificación (ED 2; IEC 60748-21: 1997 ED 2)

Anhui Provincial Standard of the People's Republic of China, Producción de películas conductoras.

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Professional Standard - Urban Construction, Producción de películas conductoras.

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Association Francaise de Normalisation, Producción de películas conductoras.

  • NF EN 62374:2008 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • NF C96-050-22*NF EN 62047-22:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 22: método de prueba de tracción electromecánica para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • NF EN 62047-22:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 22: método de ensayo de tracción electromecánico para películas delgadas conductoras sobre sustratos flexibles.
  • NF C93-781*NF EN 61249-5-1:1996 Materiales para estructuras de interconexión. Parte 5: conjunto de especificaciones seccionales para láminas y películas conductoras con y sin revestimiento. Sección 1: láminas de cobre (para la fabricación de materiales base revestidos de cobre).
  • NF C31-888-15*NF EN 61788-15:2012 Superconductividad - Parte 15: mediciones de características electrónicas - Impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras en frecuencias de microondas
  • NF EN 61788-15:2012 Superconductividad - Parte 15: mediciones de características electrónicas - Impedancia superficial intrínseca de películas superconductoras en frecuencias de microondas
  • NF EN 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: métodos de ensayo de tracción para materiales de película delgada
  • NF EN 62047-18:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: métodos de prueba de flexión para materiales de película delgada.
  • NF C31-888-17*NF EN 61788-17:2013 Superconductividad - Parte 17: mediciones de características eléctricas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de área grande
  • NF C96-017*NF EN 62374:2008 Dispositivos semiconductores: prueba de ruptura dieléctrica dependiente del tiempo (TDDB) para películas dieléctricas de puerta
  • NF C96-050-18*NF EN 62047-18:2014 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 18: métodos de prueba de flexión de materiales de película delgada.
  • NF EN 62047-3:2006 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 3: probetas estandarizadas de película delgada para ensayos de tracción.
  • NF C86-411:1987 DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES. SISTEMA ARMONIZADO DE EVALUACIÓN DE CALIDAD DE COMPONENTES ELECTRÓNICOS. CIRCUITOS INTEGRADOS DE CINE Y HÍBRIDOS. ESPECIFICACIÓN SECCIONAL. (ESPECIFICACIÓN CECC 63 100).
  • NF C31-888-17*NF EN IEC 61788-17:2021 Superconductividad - Parte 17: mediciones características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de área grande
  • NF EN IEC 61788-17:2021 Superconductividad - Parte 17: mediciones de características electrónicas - Densidad de corriente crítica local y su distribución en películas superconductoras de gran superficie
  • NF C96-050-2*NF EN 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: métodos de ensayo de tracción de materiales de película delgada.
  • NF C96-050-3*NF EN 62047-3:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 3: probeta estándar de película delgada para ensayos de tracción
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  • NF C86-430:1988 DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES. SISTEMA ARMONIZADO DE EVALUACIÓN DE CALIDAD DE COMPONENTES ELECTRÓNICOS. REDES DE RESISTENCIAS DE PELÍCULA FIJA. ESPECIFICACIÓN GENÉRICA. ESPECIFICACIÓN CECC 64 000.
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