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半導体と光触媒

半導体と光触媒は全部で 152 項標準に関連している。

半導体と光触媒 国際標準分類において、これらの分類:表面処理・メッキ、 セラミックス、 包括的なテスト条件と手順、 オプトエレクトロニクス、レーザー装置、 電子機器用機械部品、 半導体ディスクリートデバイス、 集積回路、マイクロエレクトロニクス、 金属材料試験。


Association Francaise de Normalisation, 半導体と光触媒

  • XP CEN/TS 16599:2014 光触媒は、半導体材料の光触媒性能をテストするための照射条件を決定します。
  • NF ISO 10677:2011 テクニカルセラミックス半導体光触媒材料試験用UV光源
  • XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 光触媒 半導体材料の光触媒性能を試験するための照射条件とその測定
  • NF ISO 14605:2013 屋内照明環境で半導体光触媒材料をテストするためのテクニカル セラミックス光源
  • NF B44-103*NF ISO 10677:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス)を用いた半導体光触媒材料の検査用紫外線光源
  • NF ISO 22197-4:2021 テクニカルセラミック空気浄化用半導体光触媒材料の性能試験方法 パート 4: ホルムアルデヒド除去
  • NF ISO 22197-5:2021 テクニカルセラミック空気浄化用半導体光触媒材料の性能試験方法 第5部:メチルメルカプタンの除去
  • NF B44-105*NF ISO 14605:2013 ファインセラミックス(モダンセラミックス、先端産業用セラミックス) - 屋内照明環境で使用される半導体光触媒材料のテスト光源
  • NF B44-101-4:2013 ファインセラミックス(現代セラミックス、先端産業用セラミックス) ~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~ 第4回 ホルムアルデヒド除去
  • NF B44-101-5:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 メチルメルカプタンの除去
  • NF B44-101-5*NF ISO 22197-5:2021 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 メチルメルカプタンの除去
  • NF B44-101-4*NF ISO 22197-4:2021 ファインセラミックス(現代セラミックス、先端工業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第4部 ホルムアルデヒド除去
  • NF C96-013-6-16*NF EN 60191-6-16:2013 半導体デバイスの機械的標準化 第6-16部:BGA、LGA、FBGA、FLGAの半導体試験および高温加速劣化ソケット試験の用語解説
  • NF ISO 18560-1:2014 工業用セラミック屋内照明環境におけるテストチャンバー法を使用して、空気浄化用の半導体光触媒材料の性能を測定するための試験方法 - パート 1: 除去...
  • NF B44-106-1*NF ISO 18560-1:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス)の室内光環境における実験室法による半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法その1:ホルムアルデヒド除去
  • NF EN 62007-1/A1:2022 光ファイバーシステム用光電子半導体デバイス 第1部:基本値と特性に関する仕様モデル
  • NF EN 62007-1:2015 光ファイバーシステム用光電子半導体デバイス 第1部:基本値と特性に関する仕様モデル

European Committee for Standardization (CEN), 半導体と光触媒

  • PD CEN/TS 16599:2014 光触媒:半導体材料の光触媒特性の照射条件とその条件の決定
  • CEN/TS 16599:2014 光触媒試験 半導体材料の光触媒性能の照射条件とその測定

British Standards Institution (BSI), 半導体と光触媒

  • BS PD CEN/TS 16599:2014 光触媒:半導体材料の光触媒特性を試験するための照射条件とその測定
  • BS ISO 19722:2017 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 溶存酸素消費法による半導体光触媒材料の光触媒活性の試験方法
  • BS ISO 10677:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス)、半導体光触媒材料試験用紫外光源
  • BS ISO 27447:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス)半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • BS ISO 13125:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の防カビ効果試験方法
  • BS ISO 19635:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の藻類抑制活性試験方法
  • BS ISO 14605:2013 ファインセラミックス(モダンセラミックス、先端産業用セラミックス)、屋内照明環境で使用される半導体光触媒材料のテスト光源
  • BS ISO 22197-2:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 半導体光触媒材料 空気浄化アセトアルデヒド除去性能試験方法
  • BS ISO 22197-4:2021 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 ホルムアルデヒド除去
  • BS ISO 22197-1:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の一酸化窒素除去空気浄化性能試験方法
  • BS ISO 22197-3:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 半導体光触媒材料 空気浄化性能試験方法 トルエン除去
  • BS ISO 22197-1:2008 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 一酸化窒素の除去
  • BS ISO 22197-4:2013 ファインセラミックス(アドバンスセラミックス、アドバンスクラフトセラミックス)、半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法、ホルムアルデヒド除去
  • BS ISO 22197-3:2011 精製セラミックス(高級陶器、高度加工陶器) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 トルエンの除去
  • BS ISO 22197-2:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス)、半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法、アセトアルデヒドの除去
  • BS ISO 22197-5:2021 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 メチルメルカプタンの除去
  • BS ISO 22197-5:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 メチルメルカプタンの除去
  • BS ISO 24448:2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス)。 屋内照明環境で使用される半導体光触媒材料のテスト用LED光源
  • BS ISO 18061:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の抗ウイルス活性測定 バクテリオファージQ-βを用いた試験方法
  • BS ISO 17168-2:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下での空気浄化性能試験方法 アセトアルデヒドの除去
  • BS ISO 17168-4:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境におけるホルムアルデヒド除去空気浄化性能試験方法
  • BS ISO 27447:2009 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • BS ISO 27448:2009 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス)、半導体光触媒材料のセルフクリーニング性試験方法、水接触角の測定
  • BS ISO 17094:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 屋内光環境下における半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • 21/30403033 DC BS EN ISO 24448。 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス)。 屋内照明環境で使用される半導体光触媒材料のテスト用LED光源
  • BS ISO 17168-1:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法 一酸化窒素の除去
  • BS IEC 60747-5-13:2021 半導体デバイス・光電子機器・LEDパッケージの硫化水素腐食試験
  • BS ISO 10676:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の活性酸素生成能による水浄化性能を測定する試験方法
  • BS ISO 17168-5:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下での空気浄化性能試験方法 メチルメルカプタンの除去
  • 21/30425873 DC BS ISO 22197-4 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第4部:ホルムアルデヒドの除去
  • BS ISO 17168-3:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法 トルエンの除去
  • BS ISO 10676:2010 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の活性酸素生成能による水浄化性能試験方法
  • BS ISO 22551:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス) 室内照明環境における半導体光触媒材料の細菌減少率の測定 セミドライ式抗菌活性推定法...
  • 21/30425876 DC BS ISO 22197-5 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 メチルメルカプタンの除去
  • BS ISO 22601:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料中のフェノールの酸化分解性能を判定するための全有機炭素(TOC)の定量分析試験方法
  • BS ISO 18560-1:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 室内光環境における実験室法による半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 ホルムアルデヒド除去
  • BS ISO 19810:2017 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料のセルフクリーニング性試験方法 水接触角測定
  • BS ISO 19652:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下での完全分解性能試験方法 アセトアルデヒドの分解
  • BS ISO 18071:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料の抗ウイルス活性測定 バクテリオファージQ-βを用いた試験方法
  • BS ISO 19810:2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料のセルフクリーニング性能試験方法 水接触角の測定

German Institute for Standardization, 半導体と光触媒

  • DIN CEN/TS 16599:2014-07*DIN SPEC 7397:2014-07 光触媒試験 半導体材料の光触媒性能の照射条件とその測定
  • DIN ISO 22197-1:2018-12 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その1:一酸化窒素の除去
  • DIN ISO 22197-1:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端技術セラミックス)半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部:一酸化窒素除去性能(ISO 22197-1:2016)
  • DIN ISO 22197-1:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去(ISO 22197-1-2007)

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 半導体と光触媒

  • JIS R 1750:2012 ファインセラミックスの室内光環境における半導体光触媒材料の検査用光源
  • JIS R 1708:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 溶存酸素消費量を用いた半導体光触媒材料の光触媒活性評価試験方法
  • JIS R 1712:2022 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の防藻活性試験方法

International Organization for Standardization (ISO), 半導体と光触媒

  • ISO 19722:2017 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 溶存酸素消費法による半導体光触媒材料の光触媒活性の試験方法
  • ISO 13125:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の防カビ効果試験方法
  • ISO 19635:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の藻類抑制活性試験方法
  • ISO 27447:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • ISO 27447:2009 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス)半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • ISO 22197-1:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の浄化
  • ISO 10677:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス)、半導体光触媒材料検出用紫外線源
  • ISO 24448:2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 屋内照明環境で使用される半導体光触媒材料検査用LED光源
  • ISO 22197-3:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その3:トルエン除去
  • ISO 22197-2:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その2:アセトアルデヒド除去
  • ISO 22197-1:2007 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去
  • ISO 18061:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の抗ウイルス活性測定 バクテリオファージQ-βを用いた試験方法
  • ISO 22197-2:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第2部 アセトアルデヒドの除去
  • ISO 22197-3:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 その3:トルエン除去
  • ISO 22197-4:2021 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 ホルムアルデヒド除去
  • ISO 22197-5:2021 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 メチルメルカプタンの除去
  • ISO 22197-4:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 ホルムアルデヒド除去
  • ISO 22197-5:2013 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第5部 メチルメルカプタンの除去
  • ISO 17094:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 屋内光環境下における半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • ISO 19810:2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクノロジーセラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料のセルフクリーニング性能試験方法 水接触角の測定
  • ISO 10676:2010 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 活性酸素生成能力を利用した半導体光触媒材料の水質浄化性能試験方法
  • ISO 17168-1:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下における空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去
  • ISO 17168-2:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下における空気浄化性能試験方法 第2部:アセトアルデヒドの除去
  • ISO 17168-3:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下での空気浄化性能試験方法 その3:トルエンの除去
  • ISO 17168-4:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下における空気浄化性能試験方法 第4部:ホルムアルデヒド除去
  • ISO 22601:2019 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 全有機炭素(TOC)の定量分析による半導体光触媒材料のフェノール酸化分解性能試験方法
  • ISO 19810:2017 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料のセルフクリーニング性試験方法 水接触角測定
  • ISO 19652:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料の完全分解性能試験方法 アセトアルデヒドの分解
  • ISO 18071:2016 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 屋内照明環境下における半導体光触媒材料の抗ウイルス活性測定 バクテリオファージQ-βを用いた試験方法
  • ISO 18560-1:2014 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 室内光環境下における実験室法による半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部:ホルムアルデヒド除去
  • ISO 17168-5:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の室内照明環境下における空気浄化性能試験方法 第5部:メチルメルカプタンの除去
  • ISO 22551:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンスト工業用セラミックス) 半導体光触媒材料を用いた室内照明環境における細菌減少率の測定 実環境における細菌汚染表面の抗菌活性を推定するセミドライ法

KR-KS, 半導体と光触媒

  • KS L ISO 10677-2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス)半導体光触媒材料検査用紫外線光源
  • KS L ISO 27447-2023 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス)半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • KS L ISO 14605-2023 屋内照明環境下での半導体光触媒材料の検査用ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス)光源
  • KS L ISO 22197-1-2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その1:一酸化窒素除去
  • KS L ISO 22197-2-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その2:アセトアルデヒド除去
  • KS L ISO 22197-4-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクニカルセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その4:ホルムアルデヒド除去
  • KS L ISO 22197-3-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その3:トルエン除去
  • KS L ISO 22197-1-2022 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去
  • KS L ISO 22197-5-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その5:メチルメルカプタンの除去
  • KS L ISO 17168-1-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その1:一酸化窒素の除去
  • KS L ISO 17168-2-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス) ~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~ その2:アセトアルデヒド除去
  • KS L ISO 17168-4-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その4:ホルムアルデヒド除去
  • KS L ISO 17168-3-2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その3:トルエン除去

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 半導体と光触媒

  • KS L ISO 27447-2011(2016) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス)半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • KS L ISO 27447-2011(2021) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) - 半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • KS L ISO 27447:2011 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の抗菌活性試験方法
  • KS L ISO 22197-1:2018 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その1:一酸化窒素除去
  • KS L ISO 22197-2:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その2:アセトアルデヒド除去
  • KS L ISO 22197-3:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その3:トルエン除去
  • KS L ISO 22197-4:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクニカルセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その4:ホルムアルデヒド除去
  • KS L ISO 22197-1:2008 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去
  • KS L ISO 22197-1:2022 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 第1部 一酸化窒素の除去
  • KS L ISO 27448-2011(2021) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) ・半導体光触媒材料のセルフクリーニング性能試験方法 ・水接触角の測定
  • KS L ISO 27448-2011(2016) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス)半導体光触媒材料のセルフクリーニング性能試験方法水接触角の測定
  • KS L ISO 22197-5:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法~その5:メチルメルカプタンの除去
  • KS L ISO 10676:2012 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストクラフトセラミックス) 活性酸素生成能を利用した半導体光触媒材料の水質浄化性能試験方法
  • KS L ISO 10676-2012(2022) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス) - 活性酸素生成能を利用した半導体光触媒材料の水質浄化性能試験方法
  • KS L ISO 17168-1:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その1:一酸化窒素の除去
  • KS L ISO 17168-2:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス) ~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~ その2:アセトアルデヒド除去
  • KS L ISO 17168-3:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その3:トルエン除去
  • KS L ISO 17168-4:2020 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス・アドバンストテクノロジーセラミックス)~半導体光触媒材料の室内照明環境における空気浄化性能試験方法~その4:ホルムアルデヒド除去
  • KS L ISO 10676-2012(2017) ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、先端工業用セラミックス)の活性酸素生成能試験法を用いた半導体光触媒材料の水質浄化性能試験方法

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, 半導体と光触媒

  • GJB 5018-2001 半導体光電子デバイスのスクリーニングと受け入れに関する一般要件

AENOR, 半導体と光触媒

  • UNE-ISO 22197-1:2012 ファインセラミックス(アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス) 半導体光触媒材料の空気浄化性能試験方法 その1:一酸化窒素の除去
  • UNE 127197-1:2013 プレキャストコンクリート製品に浸漬した半導体光触媒材料の大気浄化性能評価試験法の適用 その1:一酸化窒素の除去

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 半導体と光触媒

  • GB/T 26915-2011 太陽光光触媒水分解水素製造システムのエネルギー変換効率と量子収率の計算
  • GB/T 26070-2010 化合物半導体研磨ウェーハの表面下損傷の反射差分スペクトル検査方法

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 半導体と光触媒

  • GB/T 39771.1-2021 半導体発光ダイオードの光放射線安全性 第 1 部: 要件と分類方法

Defense Logistics Agency, 半導体と光触媒

  • DLA SMD-5962-79013 REV F-2005 シリコンモノリシックトリプルNANDゲートバッファ、酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84040 REV F-2005 シリコンモノリシック、8入力NANDゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84048 REV F-2006 シリコンモノリシック、トリプル 3 入力 AND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84041 REV G-2002 シリコンモノリシック、デュアル 4 入力 NAND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84042 REV G-2002 シリコンモノリシック、トリプル 3 入力 NAND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84047 REV F-2002 シリコンモノリシック、デュアル 2 入力ポジティブ AND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84037 REV H-2002 シリコンモノリシック、クアドルプル2入力NANDゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84038 REV F-2002 シリコンモノリシック、トリプル 3 入力 NAND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-84039 REV G-2006 シリコンモノリシック、デュアル 2 入力 NAND ゲート、高速酸化物半導体デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-96621 REV E-2005 耐放射線性相補型金属酸化物半導体および非シリコンモノリシック回路デジタル超小型回路
  • DLA SMD-5962-96654 REV C-2003 耐放射線相補型金属酸化膜半導体ANDゲートシリコンモノリシック回路デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-96655 REV C-2003 耐放射線相補型金属酸化膜半導体ANDゲートシリコンモノリシック回路デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-96610 REV B-1997 耐放射線相補型金属酸化膜半導体 8 入力 NAND ゲート シリコンモノリシック回路 デジタルマイクロ回路
  • DLA SMD-5962-88743 REV B-1991 シリコンモノリシック8ビット相補型金属酸化物半導体フラッシュコンバータリニアマイクロ回路

RU-GOST R, 半導体と光触媒

  • GOST 29283-1992 半導体機器 ディスクリートデバイス機器および集積回路 パート 5 光電子機器

International Electrotechnical Commission (IEC), 半導体と光触媒

  • IEC 60747-5-13:2021 半導体デバイス パート 5-13: オプトエレクトロニクス デバイス LED パッケージの硫化水素腐食試験




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