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分子回折計

分子回折計は全部で 91 項標準に関連している。

分子回折計 国際標準分類において、これらの分類：教育する、光学および光学測定、放射線防護、語彙、分析化学、光学機器、労働安全、労働衛生、金属材料試験、オプトエレクトロニクス、レーザー装置、非破壊検査、非金属鉱物、人体健康器具、化学製品、金属の生産、非鉄金属、消防。

Professional Standard - Education, 分子回折計

JY/T 0588-2020 単結晶X線回折装置を用いた低分子化合物の結晶および分子構造解析の一般原理
JY/T 008-1996 円単結晶 X 線回折装置を使用した低分子化合物の結晶および分子構造解析の一般原理。
JY 141-1982 光の干渉、回折、偏光のデモンストレーター

Professional Standard - Machinery, 分子回折計

JB/T 11144-2011 X線回折装置
JB/T 9400-1999 X線回折装置技術的条件
JB/T 9400-2010 X線回折装置の技術的条件

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 分子回折計

GB 16355-1996 X線回折装置および蛍光分析装置の放射線防護基準
GB/T 19501-2004 電子後方散乱回折分析法の一般原則
GB/T 18907-2002 透過型電子顕微鏡による電子回折分析法を採用
GB/T 19501-2013 マイクロビーム解析の一般原理電子後方散乱回折解析法
GB/T 30703-2014 マイクロビーム解析ガイドライン後方散乱電子回折方位解析手法
GB/T 18907-2013 マイクロビーム解析、分析電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡、選択電子回折分析法
GB/T 38532-2020 マイクロビーム分析電子後方散乱回折平均粒径の決定

International Organization for Standardization (ISO), 分子回折計

ISO/CD 23699 マイクロビーム解析—後方散乱電子回折—語彙
ISO 13067:2011 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒径測定
ISO/CD 25498:2023 マイクロビーム分析分析電子顕微鏡法透過型電子顕微鏡を使用した選択領域電子回折分析
ISO 15902:2004 光学とフォトニクス、回折光学、語彙
ISO 15902:2019 光学とフォトニクス - 回折光学 - 語彙
ISO 23749:2022 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、鋼中のオーステナイトの定量
ISO 13067:2020 マイクロビーム分析 - 電子後方散乱回折 - 平均粒径の測定
ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した指向性測定ガイド
ISO/DIS 24173:2023 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド

National Metrological Verification Regulations of the People's Republic of China, 分子回折計

JJG 629-2014 多結晶X線回折装置の校正手順
JJG 629-1989 多結晶X線回折装置の校正手順
JJG(地质) 1014-1990 多結晶X線回折装置の校正手順

Occupational Health Standard of the People's Republic of China, 分子回折計

GBZ 115-2002 X線回折装置および蛍光分析装置の衛生保護基準

United States Navy, 分子回折計

NAVY UFGS-01 33 29-2010 低エネルギー電子回折 (TM) ファイル

PT-IPQ, 分子回折計

E E 14-1971 X線回折分析

Professional Standard - Ferrous Metallurgy, 分子回折計

YB/T 5336-2006 X線回折法を用いたハイス中の炭化物相の定量分析
YB/T 5337-2006 金属格子定数の決定方法 X線回折装置法
YB/T 5338-2006 X線回折法を用いた鋼中の残留オーステナイトの定量

Association Francaise de Normalisation, 分子回折計

NF ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折方位測定ガイド
NF S10-133:2005 光学および光学機器、回折光学、語彙
NF X21-014:2012 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒子径の測定
NF A09-280-3*NF EN 13925-3:2005 非破壊検査多結晶およびアモルファス材料の X 線回折パート 3: 機器
NF S10-133*NF EN ISO 15902:2020 光学およびフォトニクス回折光学用語集
NF EN ISO 15902:2020 光学とフォトニクス - 回折光学 - 語彙
NF X21-011*NF ISO 24173:2009 マイクロビーム分析のための電子後方散乱回折方向測定のガイド

工业和信息化部, 分子回折計

YB/T 5338-2019 X線回折装置による鋼中のオーステナイトの定量法
JB/T 13935-2020 非破壊検査器超音波検出器超音波回折音時間検出器
YB/T 4677-2018 鋼の電子後方散乱回折 (EBSD) 法における集合組織の決定
YS/T 1178-2017 アルミニウムスラグの相分析 X線回折法

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 分子回折計

KS M 0043-2009 X線回折分析
KS B ISO 15902:2013 光学とフォトニクス、回折光学、語彙
KS B ISO 15902:2008 光学とフォトニクス、回折光学、語彙
KS B ISO 15902:2018 光学とフォトニクス - 回折光学 - 語彙
KS M 0043-2009(2019) X線回折分析の一般規則

Professional Standard - Energy, 分子回折計

NB/SH/T 6015-2020 X線回折法によるZSM-23モレキュラーシーブの単位胞パラメータの決定
NB/SH/T 6033-2021 X線回折法によるZSM-22モレキュラーシーブの単位格子パラメータの決定
NB/SH/T 6024-2021 X線回折法によるZSM-5モレキュラーシーブの相対結晶化度の測定
NB/SH/T 0339-2021 X線回折法を用いたフォージャサイト型ゼオライトの単位格子パラメータの決定

National Metrological Technical Specifications of the People's Republic of China, 分子回折計

JJF 1447-2014 回折通過時間法を用いた超音波探傷器の校正仕様書

German Institute for Standardization, 分子回折計

DIN ISO 13067:2021-08 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径測定
DIN EN 13925-3:2005 非破壊検査多結晶およびアモルファス材料の X 線回折パート 3: 機器
DIN EN 13925-3:2005-07 多結晶およびアモルファス材料の X 線回折の非破壊検査パート 3: 機器
DIN EN ISO 15902:2005 光学とフォトニクス、回折光学、語彙
DIN EN ISO 15902:2020-05 光学およびフォトニクス回折光学用語集
DIN ISO 13067:2015 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒径測定 (ISO 13067-2011)
DIN ISO 24173:2013-04 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド
DIN ISO 13067:2021 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定 (ISO 13067:2020)

American National Standards Institute （ANSI), 分子回折計

ANSI/ASTM E915:1996 残留応力測定用X線回折装置の検証方法

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 分子回折計

GB/T 37983-2019 結晶材料X線回折装置回転配向性試験方法
GB/T 41076-2021 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量分析電子後方散乱回折
GB/T 40023-2021 非破壊検査装置用超音波回折音時間検出器の技術要件
GB/T 39849-2021 非破壊検査装置超音波回折音時間検出器性能試験方法

British Standards Institution (BSI), 分子回折計

BS ISO 25498:2018 マイクロビーム分析分析電子顕微鏡法透過型電子顕微鏡を使用した選択領域電子回折分析
BS ISO 13067:2011 マイクロビーム分析、反射電子回折、平均粒径測定
BS ISO 13067:2020 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定
BS EN 13925-3:2005(2009) 非破壊検査、多結晶およびアモルファス材料の X 線回折。
BS EN 13925-3:2005 非破壊検査、多結晶およびアモルファス材料の X 線回折。
BS EN ISO 15902:2005 光学とフォトニクス、回折光学、語彙
BS EN ISO 15902:2020 光学およびフォトニクス回折光学用語集
BS ISO 23749:2022 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量的測定後方散乱電子回折
BS ISO 24173:2009 マイクロビーム解析、後方散乱電子回折を使用した方位角測定の基準
19/30365236 DC BS ISO 13067 マイクロビーム分析後方散乱電子回折平均粒径の測定

European Committee for Standardization (CEN), 分子回折計

EN 13925-3:2005 非破壊検査多結晶およびアモルファス材料の X 線回折パート 3: 機器
EN ISO 15902:2020 光学とフォトニクス、回折光学、語彙

Danish Standards Foundation, 分子回折計

DS/EN 13925-3:2005 多結晶およびアモルファス材料の X 線回折の非破壊検査パート 3: 機器
DS/EN ISO 15902:2005 光学およびフォトニクス回折光学用語集

Lithuanian Standards Office , 分子回折計

LST EN 13925-3-2005 多結晶およびアモルファス材料の X 線回折の非破壊検査パート 3: 機器
LST EN ISO 15902:2005 光学および光学機器に関する回折光学用語 (ISO 15902:2004)

Professional Standard - Customs, 分子回折計

HS/T 12-2006 X線回折法によるタルク、亜塩素酸塩、マグネサイト混合相の定量分析

AENOR, 分子回折計

UNE-EN 13925-3:2006 多結晶およびアモルファス材料の X 線回折の非破壊検査パート 3: 機器

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 分子回折計

GB/T 34172-2017 マイクロビーム解析後方散乱電子回折金属・合金の位相解析法

CEN - European Committee for Standardization, 分子回折計

EN ISO 15902:2005 光学とフォトニクス、回折光学、語彙

KR-KS, 分子回折計

KS B ISO 15902-2018 光学とフォトニクス - 回折光学 - 語彙
KS B ISO 15902-2023 光学およびフォトニクス回折光学用語集

ES-UNE, 分子回折計

UNE-EN ISO 15902:2020 光学およびフォトニクス回折光学用語集

Group Standards of the People's Republic of China, 分子回折計

T/QGCML 018-2020 マイナスイオンエミッター

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 分子回折計

JIS H 7805:2005 X線回折装置を用いた金属結晶の粒径測定方法

Shanghai Provincial Standard of the People's Republic of China, 分子回折計

DB31/T 1156-2019 電気火災メルトマーク技術識別電子後方散乱回折法