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화학시계유리

모두 478항목의 화학시계유리와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 화학시계유리와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 기르다, 세라믹, 금속 재료 테스트, 분석 화학, 어휘, 철강 제품, 정보 기술 응용, 광학 장비, 품질, 표면 처리 및 도금, 길이 및 각도 측정, 고무 및 플라스틱 제품, 광학 및 광학 측정, 의료 장비, 생물학, 식물학, 동물학, 화학 제품, 가구, 기어 및 기어 변속기, 치과, 건축 자재, 위험물 보호, 실험실 의학, 기술 도면, 열처리, 유기화학, 약국, 공작 기계, 기술 제품 문서, 화학 생산, 석유 및 천연가스 추출 및 처리, 예술과 공예, 환경 보호, 절단 도구, 항공우주 제조용 재료, 건물 구조, 보호용 장비, 미생물학, 산업안전, 산업위생, 인체 건강 장비, 목재, 통나무 및 톱질한 목재, 도로 차량 장치, 검은 금속, 항공우주 제조 관련 도금 및 관련 프로세스.


Professional Standard - Education, 화학시계유리

German Institute for Standardization, 화학시계유리

RO-ASRO, 화학시계유리

Professional Standard - Light Industry, 화학시계유리

International Organization for Standardization (ISO), 화학시계유리

  • ISO/CD 20289:2017 표면 화학 분석
  • ISO/CD 20579-2:2023 표면 화학 분석
  • ISO/CD 24237:2023 표면 화학 분석
  • ISO 18118:2022 표면 화학 분석
  • ISO/DIS 20579-2:2024 표면 화학 분석
  • ISO 18115:2001 표면 화학 분석 용어집
  • ISO 14975:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 추출
  • ISO/TR 14187:2020 표면 화학 분석 - 나노구조 재료의 특성화
  • ISO 18115:2001/Amd 1:2006 표면 화학 분석 어휘 수정 1
  • ISO 18115:2001/Amd 2:2007 표면화학분석 어휘 수정 2
  • ISO 14976:1998 표면화학 분석 데이터 전송 형식
  • ISO/TR 18394:2006 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 도출
  • ISO 18117:2009 표면 화학 분석, 시료 처리 전 분석
  • ISO 18115-3:2022 표면 화학 분석 용어집 3부: 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어.
  • ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
  • ISO/TR 14187:2011 표면 화학 분석, 나노 구조 물질의 특성 분석
  • ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
  • ISO 24465:2023 표면 화학 분석 - 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 가능성 결정
  • ISO 15472:2010 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
  • ISO 15472:2001 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 스케일 교정
  • ISO 17331:2004/Amd 1:2010 표면 화학 분석 화학적 방법 및 광학 분석기(TXRF) 분광 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼 처리 표준 재료 표면 요소 수집 수정 1
  • ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 설명 스퍼터 깊이 측정
  • ISO/TS 15338:2020 표면 화학 분석 - 글로우 방전 질량 분석법 - 작동 절차
  • ISO 21530:2004 치과 치과 장비 표면 재료 화학 소독제에 대한 내성 결정
  • ISO/TR 18392:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광법배경 결정 절차
  • ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 - 깊이 분석 - 스퍼터링 깊이 측정
  • ISO 18115-1:2010 표면 화학 분석 용어집 1부: 일반 용어 및 분광학 용어
  • ISO 18115-1:2013 표면 화학 분석 용어집 1부: 일반 용어 및 분광학 용어
  • ISO 17331:2004 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 기준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법을 통한 결정
  • ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
  • ISO 20289:2018 표면 화학 분석 - 물의 전반사 X선 형광 분석
  • ISO 22048:2004 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법 정보 형식
  • ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
  • ISO 14104:2014 기어 연삭 후 표면의 강화 부식제 테스트 화학적 방법
  • ISO 18116:2005 표면 화학 분석 - 분석용 시편 준비 및 조립 지침
  • ISO 14104:2017 기어 연삭 후 표면의 강화 부식제 테스트 화학적 방법
  • ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
  • ISO/TR 896:1977 계면활성제의 과학적 분류
  • ISO 14706:2000 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
  • ISO 14706:2014 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
  • ISO/TR 19693:2018 표면화학분석 바이오센싱용 기능성 유리기판의 특성
  • ISO 10110-12:2007 광학 및 포토닉스 광학 부품 및 시스템 도면 12부: 비구면 표면
  • ISO/FDIS 18115-1 표면 화학 분석 "용어집" 1부: 분광학에 사용되는 일반 용어 및 용어
  • ISO 18115-1:2023 표면 화학 분석 용어집 1부: 분광학에 사용되는 일반 용어 및 용어
  • ISO/TS 25138:2019 표면 화학 분석 - 글로우 방전 방출 분광법을 통한 금속 산화물 필름 분석
  • ISO/TS 15338:2009 표면 화학 분석 글로우 방전 질량 분석기(GD-MS) 사용 소개
  • ISO 11039:2012 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 드리프트 속도 결정을 위한 표준
  • ISO 18115-2:2021 표면 화학 분석 용어집 2부: 주사 탐침 현미경 용어
  • ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
  • ISO 22581:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 측정 및 스캐닝 거의 실시간 정보 탄소질 화합물의 표면 오염에 대한 식별 및 보정 규칙
  • ISO 18115-2:2013 표면 화학 분석 용어집 2부: 스캐닝 프로브 현미경에 사용되는 용어.
  • ISO 28600:2011 표면 화학 분석 - 스캐닝 프로브 현미경을 위한 데이터 전송 형식
  • ISO 16242:2011 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
  • ISO/DIS 23124:2023 표면 화학 분석 라만 현미경 측면 및 축 해상도 측정
  • ISO/FDIS 23124:2023 표면 화학 분석 라만 현미경 측면 및 축 해상도 측정
  • ISO 10628-1:2014 화학 및 석유화학 산업을 위한 다이어그램 1부: 다이어그램 사양
  • ISO/DIS 4802-1 유리 제품 "유리 용기 내부 표면의 가수분해에 대한 저항성" 1부: 적정에 의한 측정 및 분류
  • ISO 14606:2000 표면 화학 분석 및 스퍼터링 깊이 프로파일링을 위한 기준 물질로 적층 필름 시스템을 사용하는 최적화 방법
  • ISO 14606:2015 표면 화학 분석 및 스퍼터링 깊이 프로파일링을 위한 기준 물질로 적층 필름 시스템을 사용하는 최적화 방법
  • ISO/TS 25138:2010 표면 화학 분석 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 금속 산화막 분석
  • ISO 14606:2022 표면 화학 분석, 스퍼터 깊이 프로파일링, 참조 자료로 계층화된 시스템을 사용한 최적화
  • ISO 15368:2001 광학 및 광학 기기의 평면 반사율 및 평면 평행 요소의 투과율 측정
  • ISO 17974:2002 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • ISO 10110-12:1997 광학 부품 및 시스템 도면을 위한 광학 및 광학 기기 준비 12부: 비구면
  • ISO 2131:1972 계면활성제의 단순화된 분류
  • ISO 14997:2017 광학 및 광학 기기 광학 부품의 표면 결함 테스트 방법

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 화학시계유리

Taiwan Provincial Standard of the People's Republic of China, 화학시계유리

Standard Association of Australia (SAA), 화학시계유리

  • AS ISO 18115:2006 표면 화학 분석. 어휘
  • AS ISO 14975:2006 표면 화학 분석. 메시지 형식
  • AS ISO 14976:2006 표면 화학 분석. 데이터 전송 형식
  • AS ISO 18116:2006 표면 화학 분석. 분석용 시료 준비 및 설치 지침
  • AS ISO 24237:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 강도 척도 반복성 및 불변성
  • ISO 7291:2010/Amd.1:2015 표면 화학 분석 기준 물질을 사용하는 실리콘 웨이퍼 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법 및 전반사 X선 형광(TXRF) 분광학을 통한 결정 수정 1
  • AS ISO 22048:2006 표면 화학 분석. 고정 2차 이온 질량 분석 측정을 위한 정보 형식
  • AS ISO 15472:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 에너지 규모의 교정
  • AS ISO 19318:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 요금통제 및 요금조정 보고방법
  • AS ISO 14606:2006 표면 화학 분석. 스퍼터링 깊이 분석. 적층 필름 시스템을 기준 물질로 사용한 최적화 방법

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 화학시계유리

  • JIS K 0147:2004 표면 화학 분석.
  • JIS R 3503:1994 화학 분석용 유리 제품
  • JIS K 0142:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • JIS K 0141:2000 표면 화학 분석 - 데이터 전송 형식
  • JIS R 1302 AMD 1:2006 화학 분석용 도자기 증발 접시(수정 1)
  • JIS R 3502:1995 화학 분석용 유리 제품의 테스트 방법
  • JIS K 0181:2021 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
  • JIS B 1756:2017 기어 연삭 후 표면의 조질 부식 검사, 화학적 방법
  • JIS K 0154:2017 표면 화학 분석 분석용 시료 준비 및 설치 지침
  • JIS G 7503:2000 단조 케이스 경화강
  • JIS K 0147-1:2017 표면 화학 분석 용어집 1부: 분광학에 사용되는 일반 용어 및 용어
  • JIS K 0148:2005 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼의 주요 표면 오염 물질을 측정합니다.
  • JIS K 0168:2011 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법을 위한 정보 형식
  • JIS K 0160:2009 표면 화학 분석은 실리콘 웨이퍼 처리 기준 물질의 표면에서 원소 및 화학적 방법을 수집하고 전반사 X선 형광(TXRF) 분광 광도법을 통해 결정합니다.
  • JIS K 0164:2023 실리콘 내 붕소의 깊이 분석을 위한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 방법
  • JIS K 0145:2002 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
  • JIS K 0147-2:2017 표면 화학 분석 용어집 2부: 스캐닝 프로브 현미경에 사용되는 용어
  • JIS K 0166:2011 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 화학시계유리

  • GB/T 22461-2008 표면 화학 분석.
  • GB/T 21007-2007 표면 화학 분석 정보 형식
  • GB/T 19499-2004 표면화학 분석 데이터 전송 형식
  • GB/Z 32494-2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 화학 정보 해석
  • GB/T 28894-2012 표면 화학 분석 - 분석 전 샘플 준비
  • GB/T 24170.1-2023 표면항균스테인레스강 제1부 : 전기화학적 방법
  • GB/T 24170.1-2009 표면 항균 스테인리스 스틸 1부: 전기화학적 방법
  • GB/T 16886.19-2011 의료기기의 생물학적 평가 파트 19: 재료의 물리화학적, 형태학적 및 표면 특성의 특성화
  • GB/T 16886.19-2022 의료기기의 생물학적 평가 19부: 재료의 물리화학적, 형태학적 및 표면 특성의 특성화
  • GB/T 29557-2013 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
  • GB/T 17879-2023 기어 연삭 후 표면 성질의 화학적 에칭 검사
  • GB/T 22461.1-2023 표면 화학 분석 용어집 1부: 일반 및 분광학 용어
  • GB/T 30701-2014 표면 화학 분석: 실리콘 웨이퍼 작업 표준 샘플의 표면 원소에 대한 화학 포집 방법 및 전반사 X선 형광 분광법(TXRF) 측정
  • GB/T 27842-2011 화학 물질 동적 표면 장력 측정 신속한 버블 방법
  • GB/T 1185-2006 광학 부품의 표면 결함
  • GB/T 25187-2010 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 30704-2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • GB/T 19502-2004 표면 화학 분석 - 글로우 방전 방출 분광법의 일반 원리
  • GB/T 19502-2023 표면 화학 분석을 위한 글로우 방전 방출 분광법에 대한 일반 규칙
  • GB/T 28892-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 29731-2013 표면 화학 분석 고해상도 오거 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 스케일 교정
  • GB/T 42360-2023 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분광 분석
  • GB/T 30815-2014 표면 화학 분석을 위한 분석 샘플 준비 및 설정 가이드
  • GB/Z 32490-2016 표면 화학 분석을 위해 X선 광전자 분광법을 사용한 배경 측정 절차
  • GB/T 22461.2-2023 표면 화학 분석 용어집 2부: 주사 탐침 현미경 용어
  • GB 5328-1985 계면활성제의 단순화된 분류
  • GB/T 32495-2016 실리콘 내 비소에 대한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 깊이 프로파일링 방법
  • GB/T 22571-2008 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
  • GB/T 20175-2006 표면 화학 분석 스퍼터링 깊이 분석 적층 필름 시스템을 기준 물질로 사용하는 최적화 방법

YU-JUS, 화학시계유리

  • JUS B.E4.216-1987 실험실 유리 제품 및 액세서리 시계 안경에 대한 품질 요구 사항
  • JUS B.E4.212-1988 실험실 유리 제품 및 액세서리. 화학 시험관의 품질 요구 사항
  • JUS C.B9.020-1989 표면 경화강에 대한 기술 요구 사항

PL-PKN, 화학시계유리

  • PN C81540-1988 화학적으로 경화된 페인트. 선박수명시험

CZ-CSN, 화학시계유리

Professional Standard - Commodity Inspection, 화학시계유리

国家质量监督检验检疫总局, 화학시계유리

British Standards Institution (BSI), 화학시계유리

  • BS ISO 14975:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • BS ISO 14975:2001 표면 화학 분석 정보 형식
  • BS ISO 18115-1:2010 표면 화학 분석, 용어집, 일반 용어 및 분광학 용어
  • BS ISO 18115-1:2013 표면 화학 분석, 용어집, 일반 용어 및 분광학 용어
  • PD ISO/TR 14187:2020 나노구조 물질의 특성화를 위한 표면 화학 분석
  • BS ISO 14976:1998 표면 화학 분석 - 데이터 전송 형식
  • PD ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석 오거 전자 분광법을 통한 화학 정보 도출
  • BS ISO 18115-3:2022 표면 화학 분석 용어집 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어
  • BS PD ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 도출
  • BS ISO 13424:2013 표면 화학 분석.X선 분광학.박막 분석 보고서
  • DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
  • BS DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
  • BS PD ISO/TR 15969:2021 스퍼터 깊이의 표면 화학 분석 깊이 프로파일 측정
  • BS ISO 18117:2009 표면 화학 분석 - 분석 전 샘플 준비
  • BS ISO 24465:2023 표면 화학 분석을 위한 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
  • BS ISO 11039:2012 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 드리프트 속도 결정
  • BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
  • BS ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
  • 21/30404376 DC BS ISO 24465. 표면 화학 분석. 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
  • BS EN ISO 21530:2004 치과 치과 장비 표면 재료 화학 소독제에 대한 내성 결정
  • BS ISO 14104:2014 기어 연삭 후 표면 성질 부식 테스트 화학적 방법
  • BS ISO 14104:2017 기어 연삭 후 표면 성질 부식 테스트 화학적 방법
  • PD ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
  • BS ISO 18115-1:2023 표면 화학 분석. 어휘. 분광학에 사용되는 일반적인 용어 및 용어
  • 21/30385921 DC BS ISO 18115-3 표면 화학 분석 용어집 3부. 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어
  • BS ISO 17331:2004+A1:2010 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 표준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법(TXRF)을 통한 결정
  • BS ISO 14707:2015 표면 화학 분석, 글로우 방전 방출 분광법, 사용 소개
  • BS ISO 14707:2000 표면 화학 분석, 글로우 방전 방출 분광법, 사용 소개
  • BS ISO 18115-2:2013 표면 화학 분석 용어집 스캐닝 프로브 현미경에 대한 용어
  • BS ISO 20289:2018 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
  • PD ISO/TS 15338:2020 표면화학분석 글로우방전 질량분석법 분석 운용과정
  • BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • BS DD ISO/TS 25138:2011 표면 화학 분석 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 금속 산화막 분석
  • BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
  • BS ISO 4802-1:2010 유리 제품 유리 용기 내부 표면의 방수 적정에 의한 결정 및 분류
  • BS ISO 18115-2:2010 표면 화학 분석 용어집 스캐닝 프로브 현미경에 사용되는 용어입니다.
  • PD ISO/TR 19693:2018 표면 화학 분석 바이오센싱 응용을 위한 기능성 유리 기판의 특성 분석
  • BS EN ISO 10628-1:2015 화학 및 석유화학 산업을 위한 다이어그램 다이어그램 사양
  • BS EN 17114:2018 문화유산 보호를 위한 다공성 무기재료의 표면 보호 및 방수 제품에 대한 기술 및 화학 데이터 시트
  • BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
  • BS ISO 18116:2005 표면 화학 분석 - 분석용 시편 준비 및 조립 지침
  • BS DD ISO/TS 15338:2009 표면 화학 분석 글로우 방전 질량 분석기(GD-MS) 사용법 소개
  • BS ISO 22048:2004 표면 화학 분석을 위한 정적 2차 이온 질량 분석법의 정보 형식
  • BS ISO 4802-1:2023 유리 제품 - 유리 용기 내부 표면의 내가수분해성의 적정 측정 및 분류
  • BS ISO 4802-1:2016 유리제품: 적정법에 따른 유리용기 내부 표면의 내가수분해성 측정 및 분류
  • BS ISO 14606:2015 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
  • BS ISO 14606:2000 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
  • BS ISO 14606:2001 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
  • BS PD ISO/TR 23173:2021 표면 화학 분석 전자 분광학 나노입자 코팅 두께 및 조성 측정
  • PD ISO/TS 25138:2019 표면 화학 분석 금속 산화막의 글로우 방전 방출 분광 분석
  • BS ISO 22048:2005 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법을 위한 정보 형식
  • BS ISO 28600:2011 표면 화학 분석 - 스캐닝 프로브 현미경을 위한 데이터 전송 형식
  • 16/30335341 DC BS ISO 14104 연삭 후 기어의 표면 템퍼링 및 에칭 검사를 위한 화학적 방법
  • BS 4S 14:1964+A2:2015 탄소 표면 경화강 사양
  • BS ISO 4802-2:2010 유리 제품 유리 용기 내부 표면의 방수 화염 분광법을 통한 결정 및 분류
  • BS ISO 4802-2:2016 유리 제품 유리 용기 내부 표면의 방수 화염 분광법을 통한 결정 및 분류
  • BS ISO 14706:2000 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
  • BS ISO 14706:2014 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
  • BS ISO 14706:2001 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
  • BS ISO 18115-2:2021 스캐닝 프로브 현미경에 사용되는 표면 화학 분석 용어집
  • BS ISO 14707:2021 표면 화학 분석을 위한 글로우 방전 방출 분광법(GD-OES) 사용 소개
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  • BS ISO 14997:2017 광학 및 포토닉스 광학 부품의 표면 결함 테스트 방법
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Defense Logistics Agency, 화학시계유리

IT-UNI, 화학시계유리

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  • UNI 959-1939 화학 실험실용 유리. 구형 바닥 접시
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  • UNI 4235-1970 화학적 및 전기화학적 표면 처리. 구리, 니켈, 아연 합금의 크롬 전해층
  • UNI 2944-1946 화학 실험실 장비. 바닥이 구형인 작은 세라믹 접시입니다. 로우 프로파일
  • UNI 2942-1946 화학 실험실 장비. 바닥이 구형인 작은 세라믹 접시입니다. 높은 프로필
  • UNI 4525-1970 화학적 및 전기화학적 표면 처리. 구리 및 그 합금에 니켈. 크롬 전해층
  • UNI 5701-1965 화학적 및 전기화학적 표면 처리. 철재료에 주석 전해 코팅
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  • UNI 5344-1964 화학적 및 전기화학적 표면 처리. 경질 크롬 전해 석출물의 접착력 측정
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API - American Petroleum Institute, 화학시계유리

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IPC - Association Connecting Electronics Industries, 화학시계유리

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Professional Standard - Military and Civilian Products, 화학시계유리

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GM Daewoo, 화학시계유리

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Association of German Mechanical Engineers, 화학시계유리

SE-SIS, 화학시계유리

Professional Standard - Medicine, 화학시계유리

Professional Standard - Agriculture, 화학시계유리

  • GB 2922-1982 화학시약 크로마토그래피 담체의 비표면적 시험방법

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 화학시계유리

  • GB/T 40110-2021 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염에 대한 TXRF(전반사 X선 형광 분광법) 측정
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  • GB/T 40128-2021 이황화 몰리브덴 시트 재료의 두께를 측정하기 위한 표면 화학 분석 원자력 현미경 방법

KR-KS, 화학시계유리

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Professional Standard - Machinery, 화학시계유리

  • JB/T 5190.1-1991 사진기계부품의 표면처리 금속도금 및 화학적 처리 표현방법
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AGMA - American Gear Manufacturers Association, 화학시계유리

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Danish Standards Foundation, 화학시계유리

(U.S.) Ford Automotive Standards, 화학시계유리

工业和信息化部, 화학시계유리

IN-BIS, 화학시계유리

HU-MSZT, 화학시계유리

Professional Standard - Aviation, 화학시계유리

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GOSTR, 화학시계유리

  • GOST 7329-1991 화학 실험실 및 전기 진공 유리 제품의 광 경로차 측정을 위한 편광성 광학 방법

European Committee for Standardization (CEN), 화학시계유리

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Aerospace Industries Association, 화학시계유리

  • AIA NAS 883-1982 미러 타겟 광학 도구의 전면은 평면과 평행합니다.

AIA/NAS - Aerospace Industries Association of America Inc., 화학시계유리

  • NAS883-1982 미러 타겟 광학 도구의 전면은 평면과 평행합니다.
  • NASM35273-1999 스크류 기계 드릴링 둥근 머리 슬롯형 황동 검정색 화학 표면 처리 UNC-2A
  • NASM35274-1999 스크류 기계 드릴 라운드 헤드 슬롯형 황동 검정색 화학 표면 처리 UNF-2A
  • NAS883-2013 정반사 대상의 전면 및 평행면의 광학 처리(개정 1)

CEN - European Committee for Standardization, 화학시계유리

  • EN 17114:2018 문화유산 보호를 위한 다공성 무기재료의 표면 보호 및 방수 제품에 대한 기술 및 화학 데이터 시트
  • EN 14349:2007 표면용 화학적 소독제 및 방부제 기계적 작용 없이 비다공성 표면에 수의학 분야에서 사용되는 화학적 소독제 및 방부제의 살균 활성을 평가하기 위한 정량 시험
  • EN 14349:2004 표면용 화학적 소독제 및 방부제 기계적 작용 없이 비다공성 표면에 수의학 분야에서 사용되는 화학적 소독제 및 방부제의 살균 활성을 평가하기 위한 정량 시험

ES-UNE, 화학시계유리

  • UNE-EN 17114:2019 문화유산 보호 다공성 무기 물질의 표면 보호 방수 제품의 기술 및 화학 데이터 시트
  • UNE-EN ISO 10628-1:2015 화학 및 석유화학 산업 차트 1부: 차트 사양
  • UNE-EN 1388-2:1995 식품과 접촉하는 재료 및 물품의 규산염 표면 2부: 세라믹 용기 이외의 규산염 표면에서 납 및 카드뮴 방출 측정

BE-NBN, 화학시계유리

  • NBN T 63-305-1986 계면활성제. 가정용 식기세척기용 세제. 성능 비교 테스트 가이드

Canadian General Standards Board (CGSB), 화학시계유리

Lithuanian Standards Office , 화학시계유리

  • LST EN ISO 21530:2004 치과 장비 표면에 사용되는 재료의 화학 소독제에 대한 내성 측정(ISO 21530:2004)

AENOR, 화학시계유리

  • UNE-EN ISO 21530:2004 치과 장비 표면에 사용되는 재료의 화학 소독제에 대한 내성 측정(ISO 21530:2004)

ES-AENOR, 화학시계유리

U.S. Military Regulations and Norms, 화학시계유리

United States Navy, 화학시계유리

Society of Automotive Engineers (SAE), 화학시계유리

US-HHS, 화학시계유리

Military Standards (MIL-STD), 화학시계유리

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  • GJB 9247-2017 광학 유리 광학 불균일 검출 방식 평면 간섭 다면 방식

VN-TCVN, 화학시계유리

SAE - SAE International, 화학시계유리

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