ZH

EN

ES

Фотоэлектрическая спектроскопия

Фотоэлектрическая спектроскопия, Всего: 91 предметов.

В международной стандартной классификации классификациями, относящимися к Фотоэлектрическая спектроскопия, являются: Аналитическая химия, Электронные компоненты в целом, Оптика и оптические измерения, Неразрушающий контроль, Электричество. Магнетизм. Электрические и магнитные измерения, Электрические и электронные испытания, Линейные и угловые измерения.


German Institute for Standardization, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • DIN ISO 16129:2020-11 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методики оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра (ISO 16129:2018); Текст на английском языке
  • DIN ISO 16129:2020 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методики оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра (ISO 16129:2018); Текст на английском языке
  • DIN ISO 15472:2020-05 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал (ISO 15472:2010)
  • DIN ISO 15472:2020 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал (ISO 15472:2010); Текст на английском языке

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • KS D 2518-2005 Методы фотоэлектроэмиссионного спектрохимического анализа металлического кадмия
  • KS D 2518-1982 Методы фотоэлектроэмиссионного спектрохимического анализа металлического кадмия
  • KS D ISO 15472:2003 Химический анализ поверхности-Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры-Калибровка энергетических шкал
  • KS D ISO 15470-2005(2020) Химический анализ поверхности-Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия-Описание выбранных параметров работы прибора
  • KS D ISO 19319-2005(2020) Химический анализ поверхности – электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия – определение латерального разрешения, области анализа и площади образца, просматриваемой анализатором.
  • KS D ISO 21270:2005 Химический анализ поверхности-Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры-Линейность шкалы интенсивности
  • KS D ISO 19319:2005 Химический анализ поверхности – электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия – определение латерального разрешения, области анализа и площади образца, просматриваемой анализатором.
  • KS D ISO 21270-2005(2020) Химический анализ поверхности-Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры-Линейность шкалы интенсивности
  • KS D ISO 19318-2005(2020) Химический анализ поверхности – рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия – отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
  • KS D ISO 18118-2005(2020) Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа h.

International Organization for Standardization (ISO), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • ISO 16129:2018 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра.
  • ISO 16129:2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра.
  • ISO 19830:2015 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.
  • ISO 10810:2019 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по анализу.
  • ISO 10810:2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по анализу
  • ISO/CD TR 18392:2023 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы определения фона.
  • ISO 14701:2018 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния.
  • ISO 15470:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
  • ISO 14701:2011 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния.
  • ISO 13424:2013 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о результатах тонкопленочного анализа.
  • ISO 16243:2011 Химический анализ поверхности - запись и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
  • ISO 21270:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
  • ISO/TR 19319:2003 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения, области анализа и площади образца, просматриваемой анализатором.
  • ISO 20903:2019 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы, используемые для определения интенсивностей пиков, и информация, необходимая для представления результатов.
  • ISO/DIS 18118:2023 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов.
  • ISO/FDIS 18118:2023 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов.
  • ISO/CD 5861 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Метод калибровки интенсивности для монохроматированных кварцевых приборов Al Kα XPS.
  • ISO/DIS 5861:2023 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Метод калибровки интенсивности для монохроматированных кварцевых приборов Al Kα XPS.

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • GB/T 41072-2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Рекомендации по анализу ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии.
  • GB/T 41073-2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.
  • GB/T 36401-2018 Химический анализ поверхности — рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия — отчет о результатах анализа тонких пленок.

British Standards Institution (BSI), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • BS ISO 16129:2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
  • BS ISO 16129:2018 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
  • BS ISO 19830:2015 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • BS ISO 10810:2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по анализу
  • BS ISO 10810:2019 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по анализу
  • BS ISO 14701:2011 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния
  • BS ISO 16243:2011 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
  • BS ISO 21270:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности
  • BS ISO 20903:2019 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы, используемые для определения интенсивности пиков, и информация, необходимая для представления результатов.
  • BS ISO 14701:2018 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния
  • 23/30461294 DC BS ISO 18118. Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов
  • BS ISO 18118:2015 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов
  • BS ISO 19668:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Оценка и отчетность по пределам обнаружения элементов в однородных материалах
  • 20/30423741 DC BS ISO 19318. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчетность о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • GB/T 25184-2010 Метод поверки рентгеновских фотоэлектронных спектрометров
  • GB/T 19500-2004 Общие правила метода рентгенофотоэлектронно-спектроскопического анализа
  • GB/T 28632-2012 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
  • GB/T 31470-2015 Стандартная практика определения площади образца, вносящей вклад в регистрируемый сигнал в электронных оже-спектрометрах и некоторых рентгеновских фотоэлектронных спектрометрах.
  • GB/T 30704-2014 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по проведению анализа.
  • GB/T 31472-2015 Стандартное руководство по методам контроля заряда и привязки заряда в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • GB/T 22571-2008 Химический анализ поверхности.Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры.Калибровка энергетических шкал.
  • GB/Z 32490-2016 Методика определения фона методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для химического анализа поверхности
  • GB/T 28893-2012 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы, используемые для определения интенсивностей пиков, и информация, необходимая при сообщении о результатах.
  • GB/T 28892-2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
  • GB/T 21006-2007 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
  • GB/T 29556-2013 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения, области анализа и площади образца, просматриваемой анализатором.
  • GB/T 25188-2010 Измерение толщины сверхтонких слоев оксида кремния на кремниевых пластинах. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.
  • GB/T 28633-2012 Химический анализ поверхности.Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
  • GB/T 25185-2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах контроля и коррекции заряда.
  • GB/T 30702-2014 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов.

Professional Standard - Electron, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • SJ/T 10458-1993 Стандартное руководство по обращению с образцами в оже-электронной спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • SJ/T 10714-1996 Стандартная практика проверки рабочих характеристик рентгеновских фотоэлектронных спектрометров

American Society for Testing and Materials (ASTM), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • ASTM E996-10(2018) Стандартная практика представления данных в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E996-19 Стандартная практика представления данных в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E995-16 Стандартное руководство по методам вычитания фона в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E995-11 Стандартное руководство по методам вычитания фона в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E996-04 Стандартная практика представления данных в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E996-10 Стандартная практика представления данных в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E2108-16 Стандартная практика калибровки шкалы энергии связи электронов рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
  • ASTM E2735-14(2020) Стандартное руководство по выбору калибровок, необходимых для экспериментов по рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
  • ASTM E902-94(1999) Стандартная практика проверки рабочих характеристик рентгеновских фотоэлектронных спектрометров
  • ASTM E1523-97 Стандартное руководство по методам контроля заряда и привязки заряда в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
  • ASTM E1523-15 Стандартное руководство по методам контроля заряда и привязки заряда в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии

未注明发布机构, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • BS ISO 18516:2006(2010) Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
  • BS ISO 21270:2004(2010) Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.

Association Francaise de Normalisation, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • NF X21-071:2011 Химический анализ поверхности - Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия - Руководство по анализу.
  • NF X21-073*NF ISO 16243:2012 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS).
  • NF ISO 16243:2012 Химический анализ поверхностей - регистрация и отчетность данных рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • GB/T 22571-2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал.
  • GB/T 33502-2017 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS).

KR-KS, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • KS D ISO 15472-2003(2023) Химический анализ поверхности. Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр. Калибровка энергетической шкалы.

Group Standards of the People's Republic of China, Фотоэлектрическая спектроскопия

  • T/ZSA 39-2020 Характеристика графена. Работа выхода. Метод ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии (UPS).
  • T/ZGIA 002-2020 Методы испытаний графена. Определение работы выхода. Ультрафиолетовая фотоэлектронная спектроскопия.

Standard Association of Australia (SAA), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • AS ISO 15472:2006 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Фотоэлектрическая спектроскопия

  • JIS K 0152:2014 Химический анализ поверхности.Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
  • JIS K 0167:2011 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по использованию экспериментально определенных коэффициентов относительной чувствительности для количественного анализа однородных материалов.




©2007-2023 ANTPEDIA, Все права защищены.