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Specification for aluminum brazing joints
High purity quartz sand for electronic products Part 4 Determination of silica
Sodium aluminum hydride for electronic industry
Specification for silver brazed joints
本标准规定了电子器件用纯银钎料中硫含量测定方法。本标准适用于电子器件用纯银中硫的的测定(银铜钎料参照使用)。测定范围为0.003%~0.006%。
Analytical methods for pure silver brazing for electron device Determination of sulphur by combustion-iodimetry
High purity quartz sand for electronic products Part 1 Technical conditions
High purity quartz sand for electronic products Part 2 General rules for analytical methods
本标准规定了测定电子器件用金铜钎料中铜的EDTA容量法。 本标准适用于电子器件用金铜钎料中铜含量的测定。测定范围(质量分数):18%~22%。
Analytical methods for gold copper brazing for electron device Determination of copper by EDTA volumetry
本标准规定了采用原子吸收光谱法(AAS)测定硝酸中金属元素银、金、钙、铜、铁、钾和钠的试验方法。 本标准适用于电子工业用硝酸(HNO) 中微量金属元素的测定。 本标准中对于硝酸(HNO)中微量金属离子银、金、钙、铜、铁、钾和钠的含量在0.1 mg/L~1 mg/L,宜于用火焰法(FL-AAS);对于含量在0.1 μg/L~100 μg/L,宜于用无火焰(石墨炉)原子吸收法(GF-AAS)。 应用本标准测定电子工业用硝酸(HNO)时,原子吸收仪应放在较好的工作环境;对于元素含量在100 μg/L以下的测定,推荐不低于GB 50472中规定的100 000级洁净室。 本标准不涉及使用安全性问题,本标准的使用人应负责建立适当的安全健康条款及使用范围的限制。
Determination of Ag、Au、Ca、Cu、Fe、K、Na concentration of nitric acid by AAS
本标准规定了采用ICP-AES测定电子器件用纯银钎料中铅、铋、锌、镉、铁、镁、铝、锡、锑和磷的测试方法。 本标准适用于电子器件用纯银钎料中铅、铋、锌、镉、铁、镁、铝、锡、锑和磷的测定。测试范围(质量分数)铅、铋、锌、镉、铁、镁、铝、锡、锑为0.000 5 %~0.010%,磷为0.000 5%~0.003%。
Test method for lead, bismuth, zinc, cadmium, iron, magnesium, aluminium, tin, antimony and phosphorus in pure silver brazing for electron device by ICP-AES
本标准规定了晶体硅光伏组件用免清洗助焊剂(以下简称“助焊剂”)的技术要求、试验方法、检验规则、包装、运输、标志和贮存。 本标准适用于晶体硅光伏组件生产过程中所使用的免清洗助焊剂。
No-clean flux used for crystalline silicon photovoltaic (PV) modules
Determination of metal element content in hydrofluoric acid using inductively coupled plasma optical emission spectrometry
本标准规定了晶体硅光伏组件用浸锡焊带的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于晶体硅光伏组件生产过程中所使用的浸锡焊带。
Tin-based solder dipping ribbon used for crystalline silicon photovoltaic (PV) modules
本标准规定了半导体器件用焊料的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。
Solder for semiconductor device
本标准规定了电子器件用金、银及其合金钎料清洁性、溅散性测定方法。
Test methods for gold, silver and their alloy brazing for electron device Determination of cleanness, spatter
本标准规定了电子器件用金、银及其合金钎料的要求、质量保证、试验方法和检验规则等。 本标准适用于非氧化气氛中钎焊电子器件用金、银及其合金钎料。
Gold, silver and their alloy brazing for electron device
本标准规定了测定电子器件用金镍钎料中镍的EDTA容量法。 本标准适用于电子器件用金镍钎料中镍含量的测定。测定范围(质量分数):16.0%~19.0%。
Analytical methods for gold nickel brazing for electron device Determination of nickel by EDTA volumetry
Determination of metal element content in nitric acid using inductively coupled plasma mass spectrometry
本标准规定了用ICP-AES测定铅、磷、锌的测试方法。 本标准适用于电子器件用金铜及金镍钎料中铅、锌、磷的测定,测定范围(质量分数):铅0.0005 %~0.006%,磷0.0002% ~0.002%,锌0.001 % ~0.008%。
Test method for lead, phosphorus and zinc in gold copper and gold nickel brazing for electron device by ICP-AES
Electrolytic Copper Foil for Li-ion Batteries
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