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半导体设备零部件

2020.10.12

半导体用水

是一种介于导体和绝缘体之间的材料,在半导体加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求比较高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。

半导体用水主要用于高技术的工业生产过程,尤其是半导体这种要求较高的技术行业,对水质要求非常严格。半导体用水中k+、na+、cu2+、zn2+、fe2+、cr6+、mn2+等金属离子含量都要在ppb级以下,总硅小于3ppb,toc小于50ppb,电阻率在18mω·cm以上,水质中及其微量的杂质原子都会对产品造成极大的影响。

半导体用水

制备之预处理系统:一般水源水都难以满足超纯水的要求,在超纯水的和制备过程中,预处理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是常用的预处理工艺流程。原水中加入絮凝剂或采用电解絮凝方式,可以去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除易生物降解的有机物和氨氮。吸附......

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