刻蚀机上市公司龙头
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化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了工艺灵活性。光滑侧壁工艺高刻蚀速率腔刻蚀高深宽比工艺锥形通孔刻蚀广泛的应用领域机械或静电压盘加热内衬 改善重复性延长
ALT 327，为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备，提供了样品载体和样品载台，它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。
详解刻蚀清洗机的结构和工作原理（一）
湿法刻蚀是利用相应的刻蚀液先将晶圆要刻蚀的膜进行分解， 再把其变为可溶性的化合物并去除，那湿法刻蚀清洗机的结构和工作原理是什么？今天就带大家瞧一瞧。一、刻蚀清洗设备分类湿法刻蚀清洗机按清洗的结构方式可以分为槽式批量清洗和单片清洗机两种
等离子刻蚀机的结构简介
ICP 设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。 （1）预真空室 预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动
详解刻蚀清洗机的结构和工作原理（二）
进行晶舟的传递并协助清洗以及干燥等过程。 最近几年来， 由于集成电路关键尺寸的不断缩小和对硅片背面保护的需要，业界研发了一种用不同酸液一边喷淋清洗旋转着的硅片的单片清洗技术。因为清洗硅片往往需要多种酸碱刻蚀液以及清洗液共同作用， 如果
等离子体/化学刻蚀设备——等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而
中微5纳米等离子体刻蚀机又被网媒“戴高帽”
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。 中微公司的刻蚀机的确水平一流，但
化学刻蚀结合激光熔融抛光法加工熔石英元件
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所精密光学制造与检测中心研究团队结合化学深刻蚀和激光抛光，对精磨后的熔石英玻璃进行加工，获得具有超光滑表面和高激光损伤阈值的熔石英元件。 熔石英元件的紫外激光损伤是制约高功率激光系统发展的关键问题
等离子体/化学刻蚀设备的刻蚀分类
刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。 湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。其特点是
多家上市公司研发新型冠状病毒试剂盒 硕世生物涨停
目前已有多家上市公司通过各种渠道宣布已研发出新型冠状病毒检测试剂盒。1月21日早盘，硕世生物即以20%的涨幅涨停。 随着春运开始，新型冠状病毒引发的疫情已经从武汉扩散到多个地区，北京、广东、上海等地均已出现确诊病例。目前已有多家
十图了解5大第三方检测上市公司年报 整体发展势头良好
优势，因此涌现出一批极具竞争力的第三方检测企业。 其中，有五家龙头企业已经登录国内资本市场，基本情况如下图所示。为进一步了解第三方检测行业的发展情况，前瞻产业研究院对这五家第三方检测上市公司2017年报进行深入解读。 营收增速均达两位数
2020年农业产业化龙头企业百强名单发布，谁是你最爱
4月25日，中国农业产业化龙头企业协会与贵州省农业农村厅，在贵阳市联合举办2020年农业产业化龙头企业百强推介暨百强国龙进贵州活动。活动公布2020年农业产业化龙头企业100强和专项10强名单。 据介绍，农业产业化龙头企业百强