描述:IG20 具有高亮度电子冲击气体离子源,专为氧气能力而设计,但也适用于惰性气体和其他气体。Hiden IG20 Ar/O2离子枪(Ion Gun),先进的......
描述:IG5C 具有低功耗、高亮度的表面电离源,与紧凑型离子柱耦合,在小型封装中提供高性能。Hiden IG5C 铯离子枪(Ion Gun),先进的离......
IMP-EPD是一款差泵、加固型二次离子质谱仪,用于分析离子束蚀刻过程中的二次离子和中性离子。仪器简介:IMP离子蚀刻探针(Ion Milling&n......
Hiden SIMS二次离子质谱工作站提供高性能静态和动态 SIMS 分析,用于的表面成份分析和深度剖析。SIMS 工作站(SIMS Workstat......
描述:Hiden的XBS系统通过实时信号输出对多个来源进行现场监测,以精确控制沉积。XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monito......
描述:TPD 工作站配备多端口 UHV 室,配有加热样品台,与高精度三重过滤质谱仪相结合,配有脉冲离子计数检测器,可实现超过灵敏度和时间分辨率。TPD Work......
Hiden TOF-qSIMS 飞行时间二次离子质谱工作站设计用于多种材料的表面分析和深度剖析应用,包括聚合物,药物,超导体,半导体,合金,光学和功能涂层以及电......
MAXIM 二次离子溅射中性粒子质谱仪可分析二次阴、阳离子动态和中性粒子,所具备的的30°接受角可形成样品粒子平面,应用于SIMS和SNMS的光学采样......
HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。应用: &nb......
HPR60 常压分子束取样质谱(Molecular Beam Sampling Mass Spectrometer)是完备的气体分析质谱仪系统,监测复......
描述:主要用于射频等离子体/直流放电等离子体/激光等离子体和微波等离子体的电子密度、离子密度、等离子体电位和电子温度等状态参数的测量。仪器简介:ESPion高级......
描述:EQS 是差式泵式二次离子质谱(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析来自固体......
Hiden PSM是一台结合质量和能量分析的仪器,用于分析等离子体过程中正、负离子、中性粒子以及自由基的种类和能量分布。PSM是一台差式泵质谱仪(In-Line......
仪器简介:Hiden EQP是一台结合质量和能量分析的仪器(Mass and Energy Analyser ......
描述:Hiden SIMS二次离子质谱工作站提供高性能静态和动态 SIMS 分析,用于的表面成份分析和深度剖析。SIMS 工作站(SIMS Workstatio......