ISO 16413:2020
通过X射线反射法评估薄膜的厚度 密度和界面宽度 - 仪器要求 对准和定位 数据采集 数据分析和报告

Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting

标准号

ISO 16413:2020

发布

2020年

发布单位

国际标准化组织

当前最新

ISO 16413:2020

 

 

适用范围

本文件规定了一种通过 X 射线反射计 (XRR) 评估平面基底上厚度约为 1 nm 至 1 μm 的单层和多层薄膜的厚度、密度和界面宽度的方法。 该方法使用单色准直光束，扫描角度或散射矢量。 类似的考虑适用于使用分布式检测器进行并行数据收集的会聚光束的情况或扫描波长，但这里不描述这些方法。 虽然提到了漫反射 XRR，并且实验要求类似，但本文件未涵盖这一点。 可以在各种配置的设备上进行测量，从实验室仪器到同步辐射束线的反射计或工业中使用的自动化系统。 应注意数据收集期间层的最终不稳定，这将导致测量结果的准确性降低。 由于在单一波长下进行的 XRR 不能提供有关各层的化学信息，因此应注意样品表面可能存在的污染或反应。 最外层结果的准确性很大程度上受到表面变化的影响。 注 1：本文件中未描述专有技术。

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