ISO 13424:2013
表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Reporting of results of thin-film analysis
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- 标准号
- ISO 13424:2013
- 发布
- 2013年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 13424:2013
- 引用标准
- ISO 18115-1:2010
- 本国际标准规定了通过 XPS 对基材上的薄膜进行分析的报告中所需的最小信息量。 这些分析涉及均质薄膜的化学成分和厚度的测量，以及通过角度分辨 XPS、XPS 溅射深度分析、峰形分析和可变光子测量作为非均质薄膜深度的函数的化学成分能量XPS。
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1991年6月-2005年12月赴日本ULVAC-PHI 株式会社表面分析室工作，历任俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)分析实验室主事(专家)。2006年1月至今被人才引进至清华大学分析中心，任高级工程师。目前主要利用AES、XPS、SIMS等表面分析技术从事固体材料表面分析、结构表征等研究。已发表学术论文四十多篇。...