ISO 13424:2013由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2013-09-23。
ISO 13424:2013在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。
本国际标准规定了通过 XPS 对基材上的薄膜进行分析的报告中所需的最小信息量。 这些分析涉及均质薄膜的化学成分和厚度的测量,以及通过角度分辨 XPS、XPS 溅射深度分析、峰形分析和可变光子测量作为非均质薄膜深度的函数的化学成分能量XPS。
GB/T 29732—2013《表面化学分析 中等分辨率俄歇电子谱仪 元素分析用能量标校准》;4. GB/T 29557—2013《表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量》;5. GB/T 28894—2012《表面化学分析 分析前样品的处理》;6. GB/T 19500—2004《X—射线光电子能谱分析方法通则》;7. GB/T 25184—2010《X射线光电子能谱仪检定方法》;8....
1991年6月-2005年12月赴日本ULVAC-PHI 株式会社表面分析室工作,历任俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)分析实验室主事(专家)。2006年1月至今被人才引进至清华大学分析中心,任高级工程师。目前主要利用AES、XPS、SIMS等表面分析技术从事固体材料表面分析、结构表征等研究。已发表学术论文四十多篇。...
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