T/CPIA 0059-2024
晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备

Low-pressure chemical vapor deposition equipment for crystalline silicon photovoltaic cells


 

 

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标准号
T/CPIA 0059-2024
发布
2024年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CPIA 0059-2024
 
 
适用范围
本文件规定了晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备的术语和定义、工作环境、技术要求、基本性能、检验方法、交付检验以及标志、包装、搬运和运输、贮存。 本文件适用于晶体硅光伏电池用管式LPCVD设备的生产及检验。其他类型LPCVD设备可参考使用。LPCVD设备可进行隧穿氧化层、本征多晶硅(Poly-Si)层、原位掺杂多晶硅(Poly-Si)层等的工艺制备。

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