高纯铜靶材分析辉光放电质谱法(GDMS)是进行高纯铜中痕量杂质元素含量的标准方法。YS/T 922-2013规定的73种痕量杂质元素中,K Zn Ge As Se Br Ru Rh等均存在基体相关的质谱干扰,是高纯铜分析的难点。以Rh为例说明Element GD Plus在高纯材料检测中的优势。...
部分摘录如下:申报号项目名称制修订完成年限YSCPZT2499-2020氮化镓化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法制定2022HGCPZT2515-2020废弃化学品中氮、硫、氟、氯含量测定 氧弹燃烧 离子色谱法制定2021HGCPZT2516-2020高盐废水中铜、镍、铅、锌、镉含量测定 电感耦合等离子体发射光谱法制定2021YSCPZT2544-2020铜熔炼渣中铜、铁、硫、二氧化硅...
部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法制订2020-11-206锌精矿化学分析方法 第26部分:氯含量的测定 比浊法制订2020-11-207塑料 导热系数和热扩散系数的测定 第4部分:激光闪光法制订2020-11-208钨精矿化学分析方法 第20部分:汞含量的测定 催化热解–冷原子吸收分光光度法制订2020-11-209农产品水溶性提取物中金属离子消除方法 离子交换法制订2020-11-2010...
Klemm等[12]利用LAICPMS监测碳化硅晶体在生长过程中元素Al, V, W和Ta的含量变化。Hoffmann等[13]向碳化硅粉末中加标准溶液,以碳为粘合剂,制备成标准样品作为校准曲线,测定了碳化硅单晶中Al, Ti, V, Mn, Fe和Cu含量,不同剥蚀坑各元素浓度相差17%~30%。 ...
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