在操作过程中掩模版和衬底晶片需要通过分立视场的显微镜同时观察,这样操作者用手动控制定位台子就能把掩模版图形和衬底晶片上的图形对准了。经过紫外光曝光,光线通过掩模版透明的部分,图形就转移到了光刻胶上。接触式光刻机的主要缺点是依赖于人操作,由于涂覆光刻胶的圆片与掩模的接触会产生缺陷,每一次接触过程,会在圆片和掩模上都造成一定的缺陷。...
文中介绍原子力显微镜作为高精度纳米级定位与量测系统,可用来针对光掩模上的缺陷形貌、尺寸大小、定位缺陷位置与种类做进一步检验 (Defect Review),并生成三维形貌和其他关键性的计量数据,亦可作为电子束或是激光修补机台的定期机况监控,给予及时的制程条件反馈。 ...
文中介绍原子力显微镜作为高精度纳米级定位与量测系统,可用来针对光掩模上的缺陷形貌、尺寸大小、定位缺陷位置与种类做进一步检验 (Defect Review),并生成三维形貌和其他关键性的计量数据,亦可作为电子束或是激光修补机台的定期机况监控,给予及时的制程条件反馈。 ...
相位掩模版产品介绍相位掩模版用于制造光纤布拉格光栅,它是控制高性能光学网络中波长选择性和色散补偿的关键组件。相位掩模版具有广泛的应用,但是比较常见的是,PMT相位掩模版(本身就是光栅)用于记录其他光栅,例如集成光学设备中的平面波导光栅和光纤布拉格光栅(FBG)。FBG是位于光纤芯中的光频率滤波器。相位掩模版技术是相位掩模版制造领域的领跑者。...
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