今天我们主要聊聊光刻的以下几个部分:曝光装置、掩模、光刻胶以及结语。曝光装置图形的转移主要是通过曝光设备来完成的。而曝光设备的性能主要取决于三个部分:分辨率、对准精度和生产效率。分辨率指的是能够精确转移到半导体表面光刻胶上的最小特征尺寸值;对准精度指的是各个掩模和先前可在硅片上的图形互相套准的准确度;生产效率指的是掩模在固定时间内所能曝光的硅片数量。以上三点是衡量曝光设备性能的主要参数。...
反之,测量精密度好,准确度不一定好,这种情况表明测定中随机误差小,但系统误差较大。准确度用来表示系统误差的大小。在实际工作中,通常用标准物质或标准方法进行对照试验,在无标准物质或标准方法时,常用加入被测定组分的纯物质进行回收试验来估计和确定准确度。反映系差的大小,指数据的均值偏离真值的程度。...
拼接刻写完全是自动化的,用户只需要导入所需要的图形即可。可使用软件对图形进行缩放、旋转、平移等操作,以实现理想的定位和尺寸。拼接所采用的高精度平移台保证±100nm的绝对定位精度,确保亚微米尺度光刻的无缝过渡。最大拼接尺寸可达200mm。无掩模光刻系统的图样可以实时调整,所以拼刻的图形可以是任意形状的而不限于周期图样。...
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