GB/T 20176-2006
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
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- 标准号
- GB/T 20176-2006
- 发布日期
- 2006年03月27日
- 实施日期
- 2006年11月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- N33
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 发布单位
- CN-GB
- 引用标准
- ISO 5725-2-1994
- 适用范围
- 本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016atoms/cm3～1×1020atoms/cm3。