GB/T 24578-2009
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
GBT24578-2009, GB24578-2009
GB/T 24578-2009 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 24578-2009
- 别名
- GBT24578-2009
GB24578-2009 - 发布
- 2009年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 替代标准
- GB/T 24578-2015
- 当前最新
- GB/T 24578-2015
- 引用标准
- GB/T 14264-1993 GB/T 2828.1-2003 SEMI MF 1526
- 本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。
本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。
本方法适用于测量面密度在(10
～10 )atoms/cm 的范围的元素。 本方法是非破坏性的。
GB/T 24578-2009相似标准
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