GB/T 24578-2009
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
GB/T 24578-2009 发布历史
本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。 本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。 本方法适用于测量面密度在(10～10)atoms/cm的范围的元素。 本方法是非破坏性的。
GB/T 24578-2009由国家质检总局 CN-GB 发布于 2009-10-30，并于 2010-06-01 实施。
GB/T 24578-2009 在中国标准分类中归属于: H80 半金属与半导体材料综合，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。
GB/T 24578-2009 发布之时，引用了标准
- GB/T 2828.1-2003 计数抽样检验程序 第1部分;按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
- GB/T 14264-1993 半导体材料术语
GB/T 24578-2009的历代版本如下：
- 2009年10月30日 GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- 2015年12月10日 GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- 标准号
- GB/T 24578-2009
- 发布日期
- 2009年10月30日
- 实施日期
- 2010年06月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- H80
- 国际标准分类号
- 29.045
- 发布单位
- CN-GB
- 引用标准
- GB/T 2828.1-2003 GB/T 14264-1993 SEMI MF 1526
- 适用范围
- 本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。
本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。
本方法适用于测量面密度在(10
～10 )atoms/cm 的范围的元素。 本方法是非破坏性的。
GB/T 24578-2009系列标准
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GB/T 24578-2009 中可能用到的仪器设备
色谱检测器
光学仪器组件
拉曼光谱仪
电子探针X射线微区分析仪(EPMA)
近红外光谱仪
X射线能谱仪(EDS)
光纤光谱仪
分子荧光光谱/荧光分光光度计
扫描电镜SEM
ICP光谱/MP-AES/ICP-AES
紫外可见分光光度计
过程质谱/在线质谱
红外光谱仪
光度仪、雾度仪、光泽度仪
透射电镜TEM
原子荧光光谱仪
X荧光光谱/XRF（能量色散型X荧光光谱仪）
光栅光谱仪(单色仪)
X射线衍射仪(XRD)
测汞仪
光源/氙灯光源/汞灯光源
X荧光光谱/XRF（波长色散型）
扫描探针/原子力显微镜SPM/AFM
原子吸收光谱仪（AAS）
气相分子吸收光谱仪
核磁共振波谱仪
X射线(衍射)仪/能谱仪部件及外设
工业CT
X射线荧光测厚仪
X射线实时成像检测系统
其他试验机
硬度计
熔样机
马弗炉/电阻炉/实验炉
化学合成仪
抛光机/磨抛机/磨样机
旋转蒸发仪
光合仪/光合作用测定仪
酶标仪
PCR仪
动物代谢等功能检测设备
叶绿素/藻类分析仪
PM2.5/PM10/PM1/TSP环境大气颗粒物监测仪
多组分气体分析仪
涂料/油墨/颜料
原子层沉积系统（ALD）
原子层沉积系统（ALD）