ISO 17331:2004/Amd 1:2010
表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy; Amendment 1
ISO 17331:2004/Amd 1:2010 中，可能用到以下仪器
ISO 17331:2004/Amd 1:2010相似标准
BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
JIS K 0160:2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
KS D ISO 14706-2003(2023) 表面化学分析-全反射X射线荧光分析仪测定硅晶片表面元素杂质
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