靶材:制备薄膜材料的关键原料溅射靶材是制备薄膜材料的关键原料。溅射过程需使用离子轰击固体表面,使靶材中金属原子以一定能量逸出并在晶圆或其他材料表面沉积,形成一层薄膜以实现导电、保护等功能,被轰击的固体即为溅射靶材。溅射靶材分类溅射靶材的种类较多,即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格。...
而溅射属于物理气相沉积技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一。 它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高动能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 ...
靶材:制备薄膜材料的关键原料溅射靶材是制备薄膜材料的关键原料。溅射过程需使用离子轰击固体表面,使靶材中金属原子以一定能量逸出并在晶圆或其他材料表面沉积,形成一层薄膜以实现导电、保护等功能,被轰击的固体即为溅射靶材。溅射靶材分类溅射靶材的种类较多,即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格。...
仅 就半导体用户靶材而言,据中国电子材料行业协会统计,2020 年国内半导体领域用溅 射靶材市场规模 16.15 亿元人民币。预计到 2025 年,国内晶圆制造用溅射靶材市场规 模将增长至 2.17 亿美元,封装领域用溅射靶材将增长至 1.18 亿美元,合计 3.35 亿美 元,大约是人民币 23.45 亿元人民币左右。...
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