GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

GBT29658-2013, GB29658-2013


GB/T 29658-2013 中,可能用到以下仪器

 

钼溅射靶 CAS:7439-98-7 乐研Leyan.com

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上海皓鸿生物医药科技有限公司

 

VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪

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沈阳科晶自动化设备有限公司

 

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪

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沈阳科晶自动化设备有限公司

 

SBC-2型试样表面处理机用于溅射靶电极

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北京中科科仪股份有限公司

 

GB/T 29658-2013

标准号
GB/T 29658-2013
别名
GBT29658-2013
GB29658-2013
发布
2013年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 29658-2013
 
 
引用标准
GB/T 14265 GB/T 15823 GB/T 1804 GB/T 20975.25 GB/T 6394 GJB 1580A JB/T 4734 YS/T 837 YS/T 871
本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)。

GB/T 29658-2013相似标准


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GB/T 29658-2013 中可能用到的仪器设备


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