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DE엑스레이 화학 성분 분석
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Professional Standard - Non-ferrous Metal, 엑스레이 화학 성분 분석
Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 엑스레이 화학 성분 분석
International Organization for Standardization (ISO), 엑스레이 화학 성분 분석
- ISO 20289:2018 표면 화학 분석 - 물의 전반사 X선 형광 분석
- ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
- ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
- ISO 21587-2:2007 규산알루미늄 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 2부: 습식 화학 분석
- ISO 13424:2013 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법, 박막 분석 결과 보고
- ISO/TR 18392:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광법배경 결정 절차
- ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
- ISO 10058-2:2008 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 2: 습식 화학 분석
- ISO 29581-2:2010 시멘트 시험 방법 2부: X선 형광법에 의한 화학적 분석
- ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용
- ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
- ISO 15472:2010 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
- ISO 15472:2001 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 스케일 교정
- ISO 17867:2015 입자 크기 분석 소각 X선 산란
- ISO 16129:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하는 방법
- ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
- ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
- ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
- ISO 12677:2011 X선 형광(XRF)을 이용한 내화물의 화학적 분석 캐스트 비드법
- ISO/TS 13762:2001 입자 크기 분석 소각 X선 스퍼터링 방법
- ISO 17867:2020 입자 크기 분석 SAXS(소각 X선 산란)
- ISO/TR 12389:2009 시멘트 시험방법, 형광X선을 이용한 화학분석 시험절차 보고
- ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 기기 성능 매개변수 설명
- ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
- ISO 20565-2:2008 크롬 함유 내화 제품 및 크롬 함유 원료의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 2: 습식 화학 분석
- ISO 15470:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 24237:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 반복성 및 강도 안정성
- ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
- ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
- ISO 16258-2:2015 작업장 공기 X선 회절을 통한 호흡성 결정질 실리카 분석 2부: 간접 분석 방법
- ISO 19318:2004 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
- ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
- ISO 19318:2021 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
- ISO 14706:2000 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
- ISO 14706:2014 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
- ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 균질 물질의 원소 검출 한계 추정 및 보고
- ISO/TR 19319:2003 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
- ISO 21079-2:2008 알루미나, 지르코니아 및 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 5% ~ 45% ZrO를 함유한 내화물(선택적 X선 형광법) 파트 2: 습식 화학 분석
- ISO 10058-1:2008 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 1: 기기, 시약, 중량 분석 실리카 분해 및 측정
- ISO 17331:2004 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 기준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법을 통한 결정
- ISO 22863-4:2021 불꽃 특정 화학 물질 측정을 위한 테스트 방법 4부: X선 형광 분광법(XRF)을 사용한 납 및 납 화합물 분석
- ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 - 깊이 분석 - 스퍼터링 깊이 측정
- ISO/CD 5861 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 석영 결정 단색 Al Ka XPS 장비 강도 교정 방법
- ISO/DIS 5861:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 수정 결정 단색 Al Kα XPS 기기 강도 교정 방법
- ISO 17470:2004 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 통한 질량점 분석 안내
- ISO 21587-1:2007 규산알루미늄 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 1: 기기, 시약, 실리카의 분해 및 중량 측정
British Standards Institution (BSI), 엑스레이 화학 성분 분석
- BS ISO 20289:2018 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
- BS ISO 13424:2013 표면 화학 분석.X선 분광학.박막 분석 보고서
- BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
- BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
- BS EN ISO 21587-2:2007 규산알루미늄 내화제품의 화학적 분석(X선 형광법 선택사항) 습식 화학적 분석
- BS ISO 29581-2:2010 시멘트 시험방법 X선 형광법에 의한 화학적 분석
- BS EN ISO 10058-2:2009 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 습식 화학 분석
- BS EN ISO 10058-2:2008 마그네사이트 및 백운석 내화 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 습식 화학 분석
- BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
- BS ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
- PD ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에서의 전반사 X선 형광 분광학 응용
- BS ISO 15472:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 수준 교정
- BS PD ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용
- BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
- BS ISO 16129:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
- BS ISO 17867:2015 입자 크기 분석 소각 X선 산란
- BS ISO 17867:2020 입자 크기 분석 소각 X선 산란(SAXS)
- DD ISO/TS 13762:2001 입자 크기 분석 소각 X선 산란
- BS ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
- PD ISO/TR 12389:2009 시멘트 테스트 방법 테스트 계획 보고서 X선 형광 화학 분석
- BS DD ISO/TS 13762:2002 입자 크기 분석 소각 X선 산란법
- BS EN ISO 20565-2:2009 크롬 함유 내화물 및 크롬 함유 원료의 화학 분석(X선 형광법 선택 사항) 습식 화학 분석
- BS EN ISO 20565-2:2008 크롬 함유 내화물 및 크롬 함유 원료의 화학 분석(X선 형광 방법 선택 사항) 습식 화학 분석
- BS ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
- BS ISO 24237:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 강도 척도의 반복성 및 안정성
- BS ISO 21270:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 및 오제 전자 분광계 강도 척도의 선형성
- BS ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS 1902-9.1:1987 내화물 시험 방법 제9부: 화학 분석법 제1부: 규산알루미늄 내화물의 X선 형광 분석 방법
- BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
- BS EN ISO 21079-2:2009 알루미나, 지르코니아, 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 5% ~ 45% ZrO2를 함유한 내화물(X선 형광 방법 선택) 습식 화학 분석
- BS EN ISO 21079-2:2008 알루미나, 지르코니아, 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 5% ~ 45% ZrO2를 함유한 내화물(X선 형광 방법 선택) 습식 화학 분석
- BS ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
- BS ISO 19318:2005 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
- BS ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
- BS ISO 22863-4:2021 불꽃놀이 속 특정 화학물질 정량 시험법 - 형광X선 분광법을 이용한 납 및 납 화합물 분석
- BS EN ISO 10058-1:2009 마그네사이트 및 백운석 내화 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 기구, 시약 및 분해된 중량 실리카 측정
- BS EN ISO 10058-1:2008 마그네사이트 및 백운석 내화 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 분해된 실리카 및 중량 측정 실리카의 기기, 시약 및 측정
- BS 1902-9.2:1987 내화 재료의 시험 방법 파트 9.2: 기기 화학 분석 방법 섹션 2: X선 형광 분광법을 이용한 규산 내화 재료 분석
- BS ISO 14706:2000 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- BS ISO 14706:2014 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- BS ISO 14706:2001 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- 23/30446996 DC BS EN ISO 21068-4 탄화규소, 질화규소, 산질화규소 및 시알론을 함유한 원료 및 내화물의 화학적 분석 4부: X선 회절 방법
- BS ISO 16258-2:2015 작업장 공기 X선 회절을 이용한 호흡성 석영 분석 간접 분석 방법
- BS ISO 11505:2012 표면 화학 분석, 글로우 방전 방출 분광학, 정량적 조성 깊이 분석을 위한 일반 절차
- BS EN 12698-2:2007 탄화규소 내화물에 결합된 질화물의 화학적 분석 광선 회절(XRD) 방법
- BS ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 추정 및 균질 재료의 원소 검출 한계 보고
- BS ISO 19318:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
- BS ISO 17331:2004+A1:2010 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 표준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법(TXRF)을 통한 결정
- BS EN ISO 21587-1:2007 규산알루미늄 내화물 제품의 화학적 분석(X선 형광법 선택 사항) 실리카의 기기, 시약, 분해 및 중량 측정
- BS EN 15305:2008 비파괴 시험 X선 회절을 이용한 잔류 응력 분석 시험 방법
- 19/30401682 DC BS ISO 22863-4 불꽃놀이의 특정 화학 물질 측정을 위한 테스트 방법 파트 4: X선 형광 분광법(XRF)을 통한 납 및 납 화합물 분석
- 20/30423741 DC BS ISO 19318 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
- BS DD ISO/TS 25138:2011 표면 화학 분석 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 금속 산화막 분석
- PD ISO/TS 16996:2015 X선 형광법을 이용한 고체 바이오연료의 원소 조성 측정
Professional Standard - Chemical Industry, 엑스레이 화학 성분 분석
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 엑스레이 화학 성분 분석
工业和信息化部, 엑스레이 화학 성분 분석
Association Francaise de Normalisation, 엑스레이 화학 성분 분석
PT-IPQ, 엑스레이 화학 성분 분석
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 엑스레이 화학 성분 분석
- KS L 5222-2009(2019) X선 형광을 이용한 시멘트의 화학적 분석 방법
- KS M 0043-2009 X선 회절 분석
- KS L ISO 21587-2:2012 규산알루미늄 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 2부: 습식 화학 분석
- KS E ISO 10086-2:2007 마그네사이트 및 백운석 내화 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 습식 화학 분석
- KS D ISO 14706-2003(2018) 표면 화학 분석 - 전반사 X선 형광 분석기는 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 불순물을 측정합니다.
- KS D ISO 15472-2003(2018) 표면 화학 분석-X선 광전자 분광계-에너지 규모 보정
- KS L ISO 21587-2-2012(2017) 규산알루미늄 내화물의 화학적 분석(X선 형광의 대안) 파트 2: 습식 화학적 분석
- KS L ISO 10058-2:2012 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS L ISO 20565-2-2012(2022) 크롬 함유 내화물 및 크롬 함유 원료의 화학적 분석(X선 형광법 대신) 2부: 습식 화학 분석
- KS L ISO 10058-2-2012(2022) 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(X선 형광법 대신) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS L ISO 21587-2-2012(2022) 알루미노실리케이트 내화물의 화학적 분석(X선 형광의 대안) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS D ISO 15470-2005(2020) 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광계의 일부 성능 매개변수에 대한 설명
- KS D ISO 15472:2003 표면 화학 분석.X선 광전 분광계.에너지 규모 교정
- KS M 0043-2009(2019) X선 회절 분석의 일반 규칙
- KS L ISO 20565-2-2012(2017) 크롬 함유 내화물 및 크롬 함유 원료의 화학적 분석(X선 형광 대체) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS L ISO 10058-2-2012(2017) 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(X선 형광의 대안) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS M 0017-2010 X선 형광 분석의 일반 원리
- KS L ISO 20565-2:2012 크롬 함유 내화 제품 및 크롬 함유 원료의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS E 3076-2002 원패스 실리카 및 실리카의 X선 형광 분석
- KS L 5222-2009 시멘트의 형광X선 분석방법
- KS D 1898-1993 구리합금 형광X선 분석방법
- KS D ISO 14706:2003 표면 화학 분석 전반사 X선 형광 분광법을 이용한 실리콘 웨이퍼 표면의 주요 오염물질 측정
- KS D 1654-1993 강철의 X선 형광 분광학 분석에 대한 일반 규칙
- KS D 1654-2003(2016) 강철의 X선 형광 분광학 분석에 대한 일반 규칙
- KS D 2710-2019 페로니오븀의 X선 형광 분광법
- KS E 3045-2002(2007) 철광석의 X선 형광 분석 방법
- KS L ISO 21079-2-2012(2022) 알루미나, 지르코니아 및 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 - 5% ~ 45% ZrO2를 함유한 내화물(X선 형광 대신) - 2부: 습식 화학 분석
- KS D ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- KS D ISO 21270:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 오제 전자 분광계강도 규모의 선형성
- KS D ISO 19319-2005(2020) 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 분석기 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역 결정
- KS L ISO 21079-2-2012(2017) 알루미나, 지르코니아 및 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 5% ~ 45% 지르코니아를 함유한 내화물(X선 형광 대체) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS L ISO 21079-2:2012 알루미나, 지르코니아 및 실리카를 함유한 내화물의 화학적 분석 5% ~ 45% ZrO2를 함유한 내화물(선택적 X선 형광 방법) 파트 2: 습식 화학 분석
- KS D ISO 21270-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모의 선형성
- KS D 1655-1993 철강의 X선 형광분광분석법
- KS M 0017-1995 X선 형광 분광 분석에 대한 일반 규칙
- KS D 1898-2019 구리 합금의 X선 형광 분광 분석
- KS D ISO 19318-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
- KS D ISO 19318:2005 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
- KS M 1068-2005 형광X-ray 분석을 이용한 유해물질의 정성/정량분석
- KS L 3316-2014 내화제품의 X선 형광분광법 분석방법
- KS D 1686-2011(2021) 철합금의 X선 형광분광분석법
- KS L 3316-2014(2019) 내화제품의 X선 형광분광법 분석방법
- KS L 3316-1998 내화제품의 X선 형광분광법 분석방법
- KS L 3316-1988 내화제품의 X선 형광분광법 분석방법
- KS E ISO 10086-1:2007 마그네사이트 및 백운석 내화 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 분해된 실리카 및 중량 측정 실리카의 기기, 시약 및 측정
- KS D ISO 19319:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
- KS L ISO 10058-1:2012 마그네사이트 및 백운석 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 1: 기기, 시약, 중량 분석 실리카 분해 및 측정
- KS E 3076-2017 규사와 규사의 X선 형광분광분석법
- KS E 3076-2022 규사와 규사의 X선 형광분광분석법
- KS D 2597-1996(2021) 지르코늄 및 지르코늄 합금에 대한 X선 형광 분광학 분석 방법
- KS D 1681-1993 알루미늄 잉곳 방출 분광화학 분석 방법
- KS D 2086-1993 티타늄의 발광분광화학 분석방법
- KS L 3316-2009 내화 벽돌 및 내화 모르타르의 X선 형광 분광법
- KS E 3075-2002 석회석 및 백운석의 X선 형광 분광법 분석 방법
- KS D 1655-2008(2019) 철강의 X선 형광분광분석법
- KS L ISO 21587-1-2012(2022) 알루미노실리케이트 내화물의 화학적 분석(X선 형광 대신) 파트 1: 기기, 시약, 용해된 실리카 측정 및 중량 측정 실리카
- KS L ISO 21587-1:2012 규산알루미늄 내화물의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 파트 1: 기기, 시약, 실리카의 분해 및 중량 측정
German Institute for Standardization, 엑스레이 화학 성분 분석
- DIN 51729-10:1996 고체 연료 테스트 연료 재의 화학적 조성 결정 파트 10: X선 형광 분석(RFA)
- DIN 51729-10:2011-04 고체 연료 테스트 연료 재의 화학적 조성 결정 파트 10: X선 형광 분석
- DIN EN ISO 21587-2:2007-12 알루미노실리케이트 내화물의 화학적 분석(X선 형광법 대체) - 2부: 습식 화학 분석
- DIN EN ISO 21587-2:2007 규산알루미늄 내화물 제품의 화학적 분석(선택적 X선 형광 방법) 2부: 습식 화학 분석
- DIN 51729-10:2011 고체 연료 테스트 연료 재의 화학적 조성 결정 파트 10: X선 형광 분석
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- DIN EN 15305:2009 비파괴 시험 X선 회절에 의한 잔류 응력 분석 시험 방법.
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Danish Standards Foundation, 엑스레이 화학 성분 분석
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 엑스레이 화학 성분 분석
未注明发布机构, 엑스레이 화학 성분 분석
Guangdong Provincial Standard of the People's Republic of China, 엑스레이 화학 성분 분석
RU-GOST R, 엑스레이 화학 성분 분석
European Committee for Standardization (CEN), 엑스레이 화학 성분 분석
KR-KS, 엑스레이 화학 성분 분석
ES-UNE, 엑스레이 화학 성분 분석
Lithuanian Standards Office , 엑스레이 화학 성분 분석
AENOR, 엑스레이 화학 성분 분석
Professional Standard - Machinery, 엑스레이 화학 성분 분석
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 엑스레이 화학 성분 분석
Standard Association of Australia （SAA）, 엑스레이 화학 성분 분석
Professional Standard - Ferrous Metallurgy, 엑스레이 화학 성분 분석
American Society for Testing and Materials (ASTM), 엑스레이 화학 성분 분석
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Occupational Health Standard of the People's Republic of China, 엑스레이 화학 성분 분석
International Electrotechnical Commission (IEC), 엑스레이 화학 성분 분석
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- XB/T 610.1-2007 사마륨-코발트 1:5형 영구자석 합금 분말의 화학적 분석 방법, 사마륨 및 코발트 함량 측정, X선 형광 분광법.
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