71.040.40 化学分析 标准查询与下载
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GB/T 5275的本部分规定了用容积泵连续产生校准用混合气的方法,该方法通过多活塞容积泵、用纯气或混合气制备含两种或多种组分的校准用混合气体。这种泵可用于制备平衡气中气相组分的体积分数范围在0.1%以上的混合气体,测量的相对扩展不确定度U由相对合成不确定度乘以包含因子k=2得出,其值不超过0.5%。多个容积泵串联运行可获得更低浓度的混合气体。两个容积泵的串联组可制备的最低浓度为10。而且采用预混气代替纯气制备混合气体,还可得到更低浓度的混合气体,其结果及不确定度计算参见附录A。此方法的优点是可连续制备大量混合气体,且可制备多组分混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 2:Volumetric pumps
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T 5275的本部分详细阐述了使用市售热式质量流量控制器利用纯气或混合气连续制备含两种或多种组分的校准混合气体的方法。使用本方法制备校准混合气体所能达到的最好水平如下:相对测量扩展不确定度(由合成标准不确定度乘以包含因子k=2得到)U不大于2%。如使用预混合气体代替纯气,可制备摩尔分数低于10的混合气体。质量流量的测量不是绝对的,质量流量控制器需要单独校准。这种制备方法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数量的热式质量流量控制器,就可像制备二元混合气体一样方便地制备多组分混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 7:Thermal mass-flow controllers
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了用旋转挂片法测定水处理剂缓蚀性能的实验室方法。 本标准适用于水处理剂缓蚀性能的测定。
Determination of corrosion inhibition performance of water treatment agents.Rotation specimen method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G76
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T 5275的本部分规定了一种利用内含单个或多个毛细管组合(气体分割器)的设备,由纯气体或混合气连续制备校准混合气体的方法。单毛细管系统可用于制备组分体积分数在10~0.5的混合气体。本方法的相对扩展不确定度不超过2%,可用于制备指定气体氛围的工业气体混合系统。气体分割器用于从纯气或混合气制备一定体积比的混合气体。这种设备稀释获得体积分数0.000 5~0.9之间的基准气体,其相对重复性小于0.5%。气体分割器制备混合气体的溯源性,可通过将其与国家或国际气体标准比较来实现。实例参见附录A。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 5:Capillary calibration devices
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T5275 的本部分规定了动态体积法制备混合气体所涉及的校准方法,并简要介绍了动态体积法制备技术的部分实例。 关于动态体积法制备技术在GB/T5275 的其他部分有更详细的描述。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 1:Methods of calibration
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
本标准提供了表面化学分析样品安装和表面处理方法的指导。目的是帮助分析人员理解在使用俄歇电子能谱、二次离子质谱和X射线光电子能谱等表面分析技术进行分析时,所必需的专门样品处理条件。
Surface chemical analysis.Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2014-06-24
- 实施
- 2015-02-01
本标准适用于X射线光电子能谱仪的操作者分析典型样品。本标准帮助操作者完成整个分析过程,包括样品处理,谱仪校准和设定以及宽扫描谱和窄扫描谱的采集,并给出了定量和准备最终报告的建议。
Surface chemical analysis.X-ray photoelectron spectroscopy.Guidelines for analysis
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2014-06-09
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。本标准适用于原子表面密度介于6×10 atoms/cm~5×10 atoms/cm范围的铁和/或镍。
Surface chemical analysis.Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2014-06-09
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析中相对灵敏度因子的实验测量和使用指南。
Surface chemical analysis.Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy.Guide to the use of experimentally determined relative sensitivity factors for the quantitative analysis of homogeneous materials
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2014-06-09
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了俄歇电子谱仪动能标不确定度为3 eV时的校准方法,用于识别表面常规元素。另外,还规定一种用于确定校准周期的方法。本标准适用于直接模式或微分模式的仪器分辨率小于等于0.5%,微分模式调制幅度的峰峰值为2 eV。本标准适用于配有惰性气体离子枪或其他样品清洁方法,具有4 keV或更高束能电子枪的谱仪。
Surface chemical analysis.Medium resolution Auger electron spectrometers.Calibration of energy scales for elemental analysis
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-09-18
- 实施
- 2014-06-01
本标准规定了用于表面元素和化学态分析的俄歇电子能谱的动能标校准方法。并且还规定了校准日程安排,用于在中间某一能量值测试动能标线性、在高低动能区各取一点确认标尺校准的不确定度、校正标尺小漂移以及规定在95%置信度时该动能标校准的扩展不确定度(这个不确定度包括实验室之间研究中观察到的各种现象,但不涵盖所有可能的缺陷)。本标准仅适用于配备溅射清洁离子枪的仪器。不适用于以下情况的仪器:动能标尺的误差随能量明显非线性变化;工作于谱仪的相对分辨率低于0.2%的固定△E/E模式或固定△E为1.5 eV模式时,要求容差极限为±0.05 eV或更小。也不适用于电子枪不能在5 keV~10 keV能量范围操作的仪器。本标准不提供全标尺校准检验,该检验要对每一个在能量标尺上能设定的点加以验证,且应按仪器制造商的推荐程序进行。
Surface chemical analysis.High-resolution Auger electron spectrometers.Calibration of energy scales for elemental and chemical-state analysis
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-09-18
- 实施
- 2014-06-01
本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测量方法。本标准适用于俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器的检测。
Surface chemical analysis.Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy.Determination of lateral resolution,analysis area,and sample area viewed by the analyser
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
本标准规定了辉光放电原子发射光谱法分析锌和/或铝基合金镀层中镀层厚度、镀层质量(单位面积)和金属镀层中化学成分。需要考虑的合金化元素有镍、铁、硅、铅和锑。本标准适用的元素质量分数范围:锌(0.01%~100%),铝(0.01%~100%),镍(0.01%~20%),铁(0.01%~20%),硅(0.01%~10%),铅(0.005%~2%),锑(0.005%~2%)。
Surface chemical analysis.Analysis of zinc and/or aluminium based metallic coatings by glow discharge optical emission spectrometry
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
本标准规定了用扫描电子显微镜及能谱仪对沉积岩自生粘土矿物的晶体形态及化学成分进行鉴定的方法。本标准主要用于石油、天然气沉积岩中常见自生粘土矿物鉴定分析。其他自生粘土矿物鉴定分析可参照执行。
Microbeam analysis.Identification of authigenic clay mineral in sedimentary rock menthod by scanning electron microscope and energy dispersive spectrometer
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- D04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
针对于常规分析使用的电子枪能量至少为2 keV的俄歇电子能谱仪,本标准规定了一种评估其强度标的重复性和恒定性的方法。它仅适用于配备了溅射清洁用离子枪的仪器。本标准并非旨在成为一种强度/能量响应函数的校准,这种校准可由仪器厂商或者其他机构制定。本方法提供数据以评估和确认仪器使用中强度/能量响应函数保持恒定的精度,对可影响这种恒定性的一些仪器设置给出了指导。
Surface chemical analysis.Auger electron spectroscopy.Repeatability and constancy of intensity scale
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
本标准规定了溅射深度剖析中测量溅射深度的准则。本标准适用于结合离子轰击剥离部分固体样品的表面化学分析技术,通常溅射深度可达几微米。
Surface chemical analysis.Depth Profiling.Measurment of sputtered depth
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
本标准规定了电子探针仪〈EPMA〉和扫描电子显微镜(SEM〉的X射线波谱仪(WDS〉和能谱仪(EDS)对硅酸盐玻璃的定量分析方法。 本标准适用于硅酸盐玻璃试样〔包括碱金眉的硅酸盐玻璃)的波谱法〈WDX〉和能谱法〈EDX〉的定量分析。
Microbeam analysis.Quantitative analysis of silicate glass by wavelength dispersive X-ray spectrometry and energy dispersive X-ray spectrometry
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2013-07-19
- 实施
- 2014-03-01
本标准规定了如何描述X射线光电子能谱仪的特定性能。
Surface chemical analysis.X-ray photoelectron spectroscopy.Description of seleted instrumental performance parameters
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2012-11-05
- 实施
- 2013-06-01
本标准规定了表面化学分析样品的处理和存放容器的要求。本标准适用于表面化学分析设备的用户了解表面化学分析技术的特殊样品处理要求，特别是俄歇电子能谱（AES）、二次离子质谱（SIMS）和X射线光电子能谱（XPS或ESCA）。本标准也适用于对表面组成敏感的其他分析技术，如TXRF.对于特定的实例，特定的样品，需要更加注意。
Surface chemical analysis.Handing of specimens prior to analysis
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2012-11-05
- 实施
- 2013-06-01
本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的峰强度测量的分析结果报告中所要求的必要信息。提供了峰强度测量方法和所得峰面积的不确定度信息。
Surface chemical analysis.Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy.Methods used to determine peak intensities and information required when reporting results
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2012-11-05
- 实施
- 2013-06-01
