71.100.20 工业气体 标准查询与下载



共找到 530 条与 工业气体 相关的标准,共 36

本标准规定了电子工业用氧的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧,以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积,用作氧化源和生产高纯水的反应剂,用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维。

Gas for electronic industry.Oxygen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了电子工业用磷化氢的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。

Gas for electronic industry.Phosphine

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛,作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。

Gas for electronic industry.Hydrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。

Gas for electronic industry-Silane

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮,以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压,化学气相淀积等。

Gas for electronic industry.Nitrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了氨的技术要求,试验方法以及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于半导体工业,氮化硅、氮化镓的化学气相淀积,也可用于硅或氧化硅的氮化。

Gas for electronic industry.Ammonia

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料,采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼;和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。

Gases for electronic industry.Boron trifluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了氧化亚氮的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺。

Gas for electronic industry.Nitrous Oxide

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-30
实施
2010-05-01

本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。 分子式:HCl 相对分子质量:36.46l(按2005年国际相对原子质量)

Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-10-15
实施
2009-12-01

Oxygen supplies for medicine and aircraft breathing

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-06-21
实施
2010-05-01 00:00:00.0

本标准规定了医用氧气及航空呼吸用氧产品的要求、检验规则、试验方法以及包装、标志、储存、运输与安全警示。 本标准适用于由分离空气制取的气态及液态医用氧、航空呼吸用氧。主要用于医疗、制备潜水呼吸混合气、航空飞行呼吸等。 分子式:O。 相对分子质量:31.9988(按2005年国际相对原子质量计算)。

Oxygen supplies for medicine and aircraft breathing

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-06-21
实施
2010-05-01

本标准规定了高纯二氧化碳的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全警示。 本标准适用于以工业二氧化碳为原料经纯化制得的高纯二氧化碳。高纯二氧化碳主要用于激光、电子工业、反应堆气体冷却剂、科学研究等领域。

High purity carbon dioxide

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2009-06-02
实施
2010-02-01

本标准规定了气态氢在使用、置换、储存、压缩与充(灌)装、排放过程以及消防与紧急情况处理、安全防护方面的安全技术要求。 本标准适用于气态氢生产后的地面上各作业场,不适用于液态氢、水上气态氢、航空用氢场所及车上供氢系统。氢气生产中的相应环节可参照执行。

Technical safety regulation for gaseous hydrogen use

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-12-11
实施
2009-10-01

本标准规定了戊烷发泡剂的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全的要求。 本标准适用于以含戊烷的原料经分馏精制而得的戊烷发泡剂,该产品主要在可发性聚苯乙烯和软质聚氨酯生产工艺中作发泡剂,也可用于化学工业或实验溶剂。

Pentane vesicant

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-06-30
实施
2009-02-01

本标准规定了气雾剂级异丁烷的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全的要求。 本标准适用于含异丁烷的原料,经过一定工艺处理得到的异丁烷,该产品主要用作气雾推进剂。

Aerosol grade isobutane(A-31)

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-06-19
实施
2009-02-01

本标准规定了气雾剂级丙烷的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全的要求。 本标准适用于以含丙烷的原料,经过一定工艺处理得到的丙烷,该产品主要用作气雾推进剂。分子式:CHCHCH 相对分子质量:44.09

Aerosol grade propane(A-108)

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-06-19
实施
2009-02-01

本标准规定了气雾剂级正丁烷的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全的要求。 本标准适用于以含正丁烷的原料,经过一定工艺处理得到的正丁烷,该产品主要用作气雾推进剂。 分子式:CH(CH)CH 相对分子质量58.12(按2001年国际相对原子质量)

Aerosolgrade n-butane(A-17)

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-06-19
实施
2009-02-01

本标准规定了工业氧的技术要求、试验方法以及包装、标志、储存与运输。给出了氧气安全警示。 本标准适用于由深冷法分离空气和电解水等方法制取的气态或液态氧,主要用于冶金、化工、环境保护、火焰加工等。 分子式:O。 相对分子质量:31.9988(按2005年国际相对原子质量计算)。

Industrial oxygen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01

本标准规定了工业氮的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮存等。 本标准适用于由分离空气制取的气态氮或液态氮,主要用作保护气、置换气、低温储藏等。 分子式:N。 相对分子质量:28.0134(按2005年国际相对原子质量计算)。

Industrial nitrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01

本标准规定了纯氮、高纯氮和超纯氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮运、安全警示等。 本标准适用于空气分离或经净化得到的气态或液态的纯氮、高纯氮和超纯氮,主要用作保护气、置换气、反应气等。 分子式:N 相对分子质量:28.0134(按2005年相对原子质量)

Pure nitrogen and high purity nitrogen and ultra pure nitrogen

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
2008-05-15
实施
2008-11-01



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