应用： 

-太阳能电池 多晶硅，N-Si, P-Si
-Si3N4 薄膜
-防指纹处理

样品尺寸 : 4 ~ 8inch,                                                                                                                                            系细丝DC 功率 : 3kW ~ 7kW (客户可选)
Chuck bias (option) : (+)/(-)1kV, 30mA
基底加热: Max. 300∩ (wafer 温度)
Load-lock chamber : 独立型 (option - Robot type) 
极限压力 :  5*10-3Torr 
真空泵 : Dry pump (option - TMP) 
过程控制 :  PC自动控制

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途