离子束刻蚀系统

仪器应用：
离子抛光
离子清洗
等离子体灰化
等离子体氧化、氮化
表面改性
 反应刻蚀
 生物医药
传感器

技术参数：
1，真空系统：
尺寸： 72英寸X 50英寸
真空泵：分子泵+机械泵
本底真空：1X10E-7Torr
2， 样品台：
样品大小：150mm
处理角度：0-180度
旋转速度：0-20RPM
冷却：水冷
3， 离子源
孔径：22厘米
栅格：2个，钼材质
激发：RF射频
电性中和：PBN
束流： 200-1000V， 0-1000mA
工作气体：Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS终点监测

主要特点：
RF or DC 离子源， 8-22厘米Gridded Kaufman离子源
单片样品传输腔
高效率高产量，低能量等离子体源
zei大直径至150毫米样品表面处理
<3% 非均匀性
 水冷，倾斜，旋转
操作简便，小型设备，皮实耐用
SIMS终点监测
全部电脑操作
反应离子刻蚀
单片样品台/三片行星式旋转样品台

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途