仪器简介：
射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS
射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗

技术参数：
射频离子源
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度：290mm
真空腔体内端面直径：57mm, 96mm
兼容气体：O2, N2, H2, Ar
水冷
射频功率：30-600W
气体流量：8-10sccm
束流能量：0.1-1kev
电流密度：可大到5mA/cm2

射频原子源
安装法兰口径：NW35CF，NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度：290mm
真空腔体内端面直径：34mm,57mm, 96mm
兼容气体：O2, N2, H2, CH4
水冷
射频功率：30-600W
气体流量：0.01-20sccm

主要特点：
无灯丝
安装容易，可方便地安装在已有系统上

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途