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Xradia高分辨率三维X射线显微镜-超分辨率光学显微镜
仪器简介:Xradia高分辨率三维X射线显微镜是最新一代处于领导地位的三维X射线显微镜(XRM)解决方案,为无损微米成像而优化。本设备提供无与伦比的亚微米分辨率......
Ushio
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USHIO自动光刻设备-光刻机设备
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USHIO投影式全自动光刻设备-投影式光刻机
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12寸晶元再生(12"
工厂建立于2006年,建有两条独立的产线(铜与非铜)进行12寸晶元再生作业,工艺先进完善, 目前已与亚太地区主要半导体厂家保持长期战略合作,深受好评。 ......
Plasma-Therm工艺设备PECVD
Plasma-Therm是致力于PECVD/HDPCVD/RIE/ICP/DSE的世界知名设备提供商, 产品涵盖2”~ 12”主流干法刻蚀/PECVD工艺,广泛......
玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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Advanced
擁有 Arc Management System™ 技術的 Ascent® DC 電源堅固耐用的 Ascent® DC 電源專門管理電弧敏感製程,專為追求高品質......
Pinnacle®
Pinnacle® 系列業界公認的 Pinnacle® 直流電源平臺具有絕佳的製程一致性和控制功能,從而大大減少了變化,提高了輸出量。這個緊湊、通用的......
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Pinnacle® Plus+Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle® Plus+ 電源為單一的波形因數,為您的反應......
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Pinnacle® 3000Advanced Energy 的 Pinnacle® 3000 直流電源提供最高的效率和功率因數,從而帶來業界......
PEII
PEII 低頻系列PEII 低頻系列提供40 kHz 脈衝寬度調製電源,具有增強的電弧控制以及與高達60 kW 的輸出相匹配的內部負荷,無變壓器等外部......
Apex®
Apex® RF電源系統通用 Apex® 系列射頻電源和供電系統採用複雜的射頻轉換技術,在適合於反應室安裝的模組化設計中提供增大的產品和製程可靠性。Apex 平......
HFV®
HFV® 變頻 (~2 MHz) 電源靈活的 HFV® 電源主要用於200和300 mm 晶圓製程、平面顯示器和 DVD 設備的電漿產生器,為離子化物......
CESAR®
CESAR® RF產生器強大而多功能的 Cesar® 平臺可提供非常穩定的射頻功率輸送性能,以及一個多樣化的模式選擇,每種模式都具有一套獨特的功能(2、4、13......
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HILIGHT™ 微波產生器(13.56MHz,600W)針對低功率、輕便應用,HiLight 系列微波產生器小巧、輕便,擁有氣冷式設計,是專門為顧客設計可在現......
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