3D纳米结构高速直写机-NanoFrazor Explore纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM R......
多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、......
台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理，也可用于其他有高......
台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，......
多功能薄膜制备系统-nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。......
多功能薄膜制备系统-Nano PVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺......
多功能薄膜制备系统-Nano CVD产品简介：NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖级科研团队的长期......
新一代高性能激光浮区法单晶炉-LFZ Quantum Design Japan公司推出的激光浮区法单晶生长系......
高压氧气氛退火炉 产品简介德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉温度可达850°C，压力可达150个大气......
高温高压光学浮区炉 德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉能够提供2200–3000℃以上的生长......
薄膜制备领导者BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应......
放电等离子烧结炉（SPS/DCS）放电等离子烧结（SPARK PLASMA SINTERING， SPS）是一种粉末快速固结的新型技术。SPS利用强电流的脉冲电......
小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为......
四电弧高温单晶生长炉 日本GES公司生产的四电弧高温单晶生长炉，采用电弧放电的高温材料合成方法，非常适合生长......
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