Park的串扰消除技术不仅改善了扫描器弓形弯曲的缺点，还能够在不同扫描位置，扫描速率和扫描尺寸条件 下进行平直正交XY轴扫描。即使最平坦的样品也不会出现如光学平面,各种偏移扫描等曲率的背景。由此为 您在研究中遇到的所有极具挑战性的问题提供高精度的纳米测量。

Park的串扰消除技术不仅改善了扫描器弓形弯曲的缺点，还能够在不同扫描位置，扫描速率和扫描尺寸条件 下进行平直正交XY轴扫描。即使最平坦的样品也不会出现如光学平面,各种偏移扫描等曲率的背景。由此为顾 客在研究中遇到的所有极具挑战性的问题提供高精度的纳米测量。

帕克的智能ADR技术提供全自动的缺陷检测和识别，使得关键的在线过程能够通过高分辨率3D成像对缺陷类型进行分类并找出它们的来源。

自动为您获得最高解析度的图像以及最精准的数据，旨为您的科学研究保驾 护航。FX系列融入了智能自动化。PARK FX40能自动处理所有程序，从选探针 到放置再到全自动扫描样品，只需轻松一键。

Vladimir Korolkov, Ilka M. Hermes Park Systems UK Ltd, MediCity, Nottingham, UK.Park Systems Europe GmbH, Mannheim, Germany 自2004年石墨烯被发现具有开创

原子力显微镜可以方便的测量导电、非导电，甚至一些液体样品也无需精密的样品制备，与TEM或SEM所需的广泛制备技术相比，这是一个显著的优势。在此份200多页的Park NX10操作手册里面详细介绍了Park NX10原子力显微镜，请下载资料参考。

NX-Wafer原子力显微镜提供精准的形貌量測，可用來监控化学机械研磨平面化制程，检测因材料差异所造成异质材料间的凹陷(dishing)效应与浸蚀(erosion)效应NX-Wafer同時具备原子力形貌量测能力，可用以检测毫米橫向尺度范围，奈米級纵向尺度的高度变化

世界顶级精度及强大功能Park原子力显微镜产品特性Park XE15具备多个特殊功能，是共享实验室处理各类样品、研究员进行多变量实验、失效分析师研究晶片等的不二选择。合理的价格搭配强健的性能设置，使其成为业内性价比最高的大型样品原子力显微镜。 MultiSample™（

Park NX20缺陷分析的最佳选择 作为一款缺陷形貌分析的精密测量仪器，其主要目的是对样品进行缺陷检测。而仪器所提供的数据不能允许任何错误的存在。Park NX20，这款全球最精密的大型样品原子力显微镜，凭借着出色的数据准确性，在半导体和超平样品行业中大受赞扬。 最强

Park XE7创新研究的经济之选Park XE7配有Park Systems的所有顶尖技术，而且价格十分亲民。XE7在细节的设计上也相当用心，是帮助您准确且不超预算地完成研究的理想之选。 无与伦比的高性能在同级产品中，Park XE7能够带来最高纳米级分辨率的测量效果。得益于独特的原子力

Park NX12可提供多功能原子力显微镜平台满足纳米级测量的需求- 原子力显微镜（AFM)有纳米级分辨率成像以及电，磁，热和机器性能测量的能力。- 纳米管扫描系统可用于高分辨率扫描离子电导显微镜（SICM)。- 倒置光学显微镜（IOM）便于透明材料研究和荧光显微镜一体化。通过验证的NX1

使用Park NX10在nature上发表的论文有：1）Probing charge screening dynamics and electrochemical processes at the solid–liquid interface with electrochemical force m

Park NX-Hivac用于失效分析的高真空扫描先进的StepScan自动化扫描和更快的激光校准技术多样品模块Park招牌技术便捷的针尖替换大型真空腔300mm X 420mm X 320mm提供超长观测距离的同轴光学设备用于提高灵敏度的高真空SSRM

导电原子力显微镜（C-AFM）是一种非常有用的扫描探针显微镜（SPA）纳米表征技术，它不仅可以对样品的形貌进行表征，更重要的是可以探测许多介质材料和电子器件的局部电学性质。C-AFM技术已经成功表征了介质薄膜的许多重要的纳米级现象，比如：局部缺陷、电荷捕获和释放、应力诱导漏电流、负偏置温度不稳定性等

SThM技术通过使用带有电阻元件的热探针来绘制样品表面的热特性。扫描热显微镜（SThM）在两种模式下是可用的，热力模式（TCM）和热传导模式（CCM）。TCM允许用户测量样品表面的温度变化。CCM允许用户测量样品表面的热导率变化。

磁力显微镜（MFM）是一种通过测量磁化尖端和磁性表面之间的磁力来绘制样品表面磁性的技术。MFM图像包含有关磁性的信息，如磁域的分布。

静电力显微镜（EFM）是一种通过测量样品表面和偏压AFM悬臂之间的静电力来反映样品表面电学性质的技术。EFM图像包含有关电子特性的信息，如样品表面的表面电位和电荷分布。

在C-AFM测量中，导电尖端以接触模式AFM扫描表面，以映射出同一表面的形貌。同时，通过测量针尖与样品之间的电流，来反映样品表面的电导率等电特性。一般情况下，针尖与样品之间的电流非常小，需要用电流放大器放大后才能加工成图像。NX系列SPMs支持10^6~10^12 V/A可变增益的内部电流放大器，满