Centrotherm 快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合

成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。

此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。

典型应用

退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火

硅化

氧化

掺杂活化

产品特性

可在常压或者真空（控压）下工作

高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘

升温速率约150 K/s

出色的温度均匀性

精确的环境控制

高的设备可靠性

可以并排安装

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途