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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性

参考报价: 面议 型号: PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
品牌: Picosun 产地: 欧洲
关注度: 1105 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
价格范围200万-300万
衬底尺寸2-8寸工艺温度可选
前驱体数5前驱体管路温度100
生长模式ALD
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了zui大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有zui严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有zui好的性能,完全满足您的需求。

技术指标

 

衬底尺寸和类型

50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

150 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度

50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件

气动升降(手动装载)

半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现

25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准

SEMI S2 认证(认证中)

前驱体

液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(zui多4路气体):

前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务

6根独立源管线,zui多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)

重量

790 kg

尺寸 (W x H x D)

160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件

集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与 工厂软件连接服务。

验收标准

标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,

其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:

--不均匀性

--颗粒物含量

--重金属污染

--电学性能


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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