您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?

稍后再说 立即咨询
北京亚科晨旭科技有限公司
400-6699-117转1000
热门搜索:
分析测试百科网 > Picosun > 微纳加工平台 > PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料

参考报价: 面议 型号: PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
品牌: Picosun 产地: 欧洲
关注度: 1019 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
价格范围200万-300万
衬底尺寸2-8寸工艺温度可选
前驱体数5前驱体管路温度100
生长模式ALD
咨询留言 在线咨询

400-6699-1171000

AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

  PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。



Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法,并在工业上获得了专利。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验,并且为ALD的许多专利做出了贡献。



敏捷的设计实现了最高质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性,可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即使在最具挑战性的通孔,超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态,气态和固态化学物质前体源。与手套箱,粉末室和各种原位分析系统集成,无论您现在的研究领域是什么,或以后可能成为什么样的研究领域,都可以进行高效,灵活的研究,并获得良好的结果。


应用领域

客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6”和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

 

材料

非均匀性(1σ)

AI2O3 (batch)

0.13%

SiO2 (batch)

0.77%

TiO2

0.28%

HfO2

0.47%

ZnO

0.94%

Ta2O5

1.00%

TiN

1.10%

CeO2

1.52%

Pt

3.41%


PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

移动版: 资讯 直播 仪器谱

Copyright ©2007-2024 ANTPEDIA, All Rights Reserved

京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号