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Sputter 磁控溅射镀膜
磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统
型号: NSC-4000 (A)
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统
型号: NSC-3000 (A)
NSC-3000 (M) 磁控溅射系统
型号: NSC-3000 (M)
NSC-1000 磁控溅射系统
型号: NSC-1000
NSC-4000(M)磁控溅射系统
型号: NSC-4000 (M)
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