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诚信认证:
400-6699-117转1000
扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)
产地:韩国;
有单管和双管两个不同的型号,用于科研或者小规模生产。
性能和特点:
- 温度范围:500 ~ 1000摄氏度;
- 气体混合能力(带有质量流量计);
- 真空范围:~ 10-6 Torr;
典型应用:
- 无应力氮化硅;
- LPCVD;
- 退火;
- 氧化;
- 其他...
低压化学气相沉积系统(LPCVD)信息由上海载德半导体技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于低压化学气相沉积系统(LPCVD)报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途
低压化学气相沉积系统(LPCVD)
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