光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国ECOPIA公司，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比

型号：M-150

技术规格：

- 掩模尺寸：最大7英寸；

- 样品尺寸：最大6英寸；

- 卡盘移动：X,Y,Z,Theta轴手动，楔形补偿调平；

- 紫外光源：6.25" X 6.25"；

- 光源功率：350瓦紫外灯；

- 光源均匀性：<+/-3%；

- 光源365nm波长强度：最大30毫瓦；

- 显微镜：双显微镜系统；

- 显微镜移动：X,Y,Z轴手动调节；

- 显微镜物镜空间：50-150mm；

- 标配放大倍率：80X-400X；

- 显示器：20" LCD；

- 曝光时间：0.1-999秒；

- 接触模式：真空接触，硬接触，软接触，接近接触(距离可调)；

- 对准精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；

- 电源：220V，单相，15安培；

主要特点:

- 光源强度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；

- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；

- 真空吸盘范围可调；

- 专利技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式

- 双CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。

- 特殊的基底卡盘可定做；

- 具有楔形补偿功能；

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途