RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。

技术规格：

  - 加热方式：红外卤素钨灯，600W；
  - 卤素红外灯数量：4支；

  - 最快升温速率：100℃/秒；

  - 最快降温速率：50秒(1000℃ → 400℃)；

  - 最高温度：1200℃；

  - 温度精度：+/-0.3℃

  - 最大样品尺寸：20 x 20mm；

  - 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；

  - 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；

  - 电压：220 V，单相；

  - 仪器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；

  - 质量：净重30Kg；

仪器特点：

  - 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；

  - 温控精度高；

  - 适合高校或研究所科研使用；

  - 无须额外的冷却系统；

  - 紧凑的台式设计；

  - 仪器操作方便，样片装取容易；

  - 价格合理，高性价比；

应用领域：

  - 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

 - 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

  - 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

  - 硅化 (Silicidation);

  - 扩散 (Diffusion);

  - 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

  - 离子注入后退火 (Implant Annealing);

  - 电极合金化 (Contact Alloying);

  - 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

  - 合金熔点分析；

  - 薄膜沉积；

    等等…

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途