武汉某大学研究中心为了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380溅射镀制&nbs......
云南某大学实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140离子束溅射制备尺寸均匀、高密度的 MnGe ......
光通信的信息载体是光波, 为了进一步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求, 广东中山某研究机构采用&nbs......
VO2 薄膜作为一种热门的功能材料, 具有优秀的相变特性和电阻开关特性, 在微测辐射热计、光存储器等光学器件领域具有广泛的应用前景......
四川某大学实验室研究靶电流, 偏压、沉积时间等各试验工艺参数对两组试样 AlTiN 涂层力学性能的影响, 旨在找出能够镀......
为了使堵片传感器的灵敏度, 分辨率、测量范围小、测量精度等得到提高, 可实现对堵片打开信号的可靠、稳定测量, 满足航天飞行器发动机......
上海某大学研究室在离子溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层研究中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP22......
为了得到最佳性能的磁控溅射 Cu-W 薄膜, 某大学新材料研究所采用 KRI 考夫曼射频离子源 RF......
河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响, 采用 KRI 考夫曼射频离子源&n......
某微电子制造商采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积硅片金属薄膜. 伯东......
某 OEM 系统集成商在搭建系统-复合磁控溅射沉积装置, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380......
某红外半导体镀膜工业厂商采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积红外器件介质膜, 以......
西南某研究所在研究 NSN 隔热膜试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅......
北京某研究院采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积制备碳薄膜, 同时在室温和无催化层衬......
兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 R......
某传感器制造商为了制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构 WO3 薄膜, 经过对比选择, 采用 &......
纯 Ti 薄膜具有优异的力学性能、热稳定性、生物相容性和良好的抗摩擦磨损性, 被广泛应用于航空航天、医疗器械、光学和微电子器件等领......
MoN薄膜是一种具有潜在应用价值的薄膜材料, 但对于其结构和性能的研究还较少. 因此，广州某研究机构采用KRI 考夫曼射频离子源&......
某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离......
钛金属具有许多优异的性能, 例如低密度/ 高熔点/ 耐腐蚀/ 无磁性和硅基衬底结合力好/ 具有形状记忆和吸氢特......
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