脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera

产品简介
基质辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）是脉冲激光沉积（PLD）的一种变体。这是NRL集团引入的新技术，旨在促进某些功能有机材料的薄膜沉积。
在传统的UV（5-6eV）PLD技术中，光化学反应可能会破坏有机分子和聚合物等的功能。但在MAPLE中，通过将待沉积的有机物（或聚合物）与吸收激光波长的溶剂（基质）混合来制备特殊的靶。在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。然后用液氮冷却液体目标物，使其冻结为固体。激光辐射主要被目标的高挥发性、冷冻的溶剂（基质）分子吸收，这些分子随后从固体目标中脱离，捕获和带走感兴趣的有机分子。在它们向基片传输的过程中，高挥发性的基质分子被抽走，将有机分子输送到基片上沉积薄膜。这种技术成功弥补了传统PLD的缺陷。


产品特点
- 独立的MAPLEPLD系统
- 可用于有机和聚合物薄膜的沉积
- 在同一室的附加沉积源（可选）：脉冲电子沉积（PED）、射频/直流溅射和直流离子源
- 负载锁定基底阶段
- 与XPS分析系统集成，晶片就地从PLD系统转移到分析系统


应用领域
脉冲激光沉积（PLD）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处在于能量源（脉冲激光）位于真空室的外部。这意味着，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10Torr~100Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。此外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制。


技术参数
1. PLD真空室尺寸：12" / 18”直径（Pioneer120-Advanced / Pioneer180Models）
2. 衬底尺寸：最大直径2“和/或多种1厘米x1厘米的样品
3. 衬底加热：最高500℃，拥有可编程的加热器
4. 基底旋转：20RPM。软件控制
5. 目标阶段：液氮冷却；单目标阶段为标准；多个目标（可选）
6. 真空装夹：衬底负载制动
7. 工业废气：按要求处理气体。50-100SCCMmfc电池
8. 软件：Windows7 / Labview2013

脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera信息由北京正通远恒科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途