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原子层沉积系统（ALD）
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牛津仪器（上海）有限公司
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牛津仪器原子层沉积系统（ALD）, 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统 OpAL提供了独一无二的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片 适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于： 氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5 氮化物：TiN, Si3N4 金属： Ru, Pt
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