技术特点
【技术特点】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统
美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可zei多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计, 使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。
GEMStar XT 产品特点:
l 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制
l 175℃ 温控150ml前驱体瓶,200℃ 控输运支管
l 可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积
l 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体
l 标准CF-40接口
l 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件
l 等离子体辅助ALD插件
l 多种配件可供选择
【技术特点对用户带来的好处】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统
【典型应用举例】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统
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原子层沉积(ALD)
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