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美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统

tel: 400-6699-117 1000

Arradiance原子层沉积(ALD), 台式三维原子层沉积系统ALD 原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是......

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技术特点
【技术特点】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统


美国ARRADIANCE公司的GEMStar  XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28  cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可zei多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar  XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,  使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在  8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。



GEMStar XT 产品特点:

l  300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制

l  175℃ 温控150ml前驱体瓶,200℃ 控输运支管

l  可容纳多片468英寸样品同时沉积

l  可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

l  标准CF-40接口

l  可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

l  等离子体辅助ALD插件

l  多种配件可供选择




【技术特点对用户带来的好处】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统


【典型应用举例】-- 美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统


厂家资料

地址:Arradiance, LLC 142 North Road, Suite F-150 Sudbury, MA 01776 USA

电话:400-6699-117 转1000

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