GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM)

超高的纳米分辨率：15keV下0.7nm，1keV下1nm

• 极限超高分辨率：1keV下1nm

• 新款的肖特基场发射电子枪现在能实现电子束电流达到400nA，且电子束能量可快速的改变

• 优化的镜筒几何学配置使得8’’晶元观察成为可能（SEM观察和FIB纳米加工）

·单极60°电磁物镜设计，绝佳的SEM分辨率 

·一流的多种成像模式—大视场模式，分辨率模式以及景深模式—这些功能都基于TESCAN独有的大视场光学系统设计 

·马达控制的精准样品台，可进行精确的移动或倾转操作 

·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察 

·高达400nA的束流强度 

·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度 

·FIB的Cobra光学系统，确保聚焦离子束极高的分辨率和优异的性能，离子束流为1pA到50nA

·强大的DrawBeam软件包，包含许多可编程设计模块（基础版和高级版）来实现扫描及制样等过程中可调参数的多样化 

·不仅具有对样品表面进行修饰和观察的多种功能，完美的空间设计还能够使电镜通过接口兼容多种探测设备与技术手段，且还能保持一致的zei佳分析工作距离