三靶高真空磁控镀膜溅射系统

主要特点

1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室，由溅射真空室与管路组成。

2、配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好。

3、用于镀制各种单层膜、多层膜系，可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。

4、同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。

5、作为试验设备来说达到了最佳的性能价格比。

标准配件

1、真空部件

进气角阀：2套；

RF100观察窗：1套；

观察窗法兰：RF100  2个；

电阻规： KF16  1个；

电极引线： CF25 1个；

2、工作真空获得及测量：

直联6L/s机械泵： 1台；

F600分子泵：1台；

电磁KF20阀：1台；

5227真空计：1台

角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等： 1路；

KF25电磁压差阀： 1台；

CF100闸板阀：1台；

3、相关规格的金属密封铜圈，氟橡胶密封圈

4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等

5、安装机台架组件:

安装台架：整个设备安放在一个用承载式标准电箱上，箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。

6、电源控制系统

电源布置在标准电箱上，安装于系统机架上。

7、自制电源

控制电源：1台（为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测）；   

样品加热电源：1台（日本产控温表可实现程序控温）室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。

8、配套电源

真空计电源：1套

直流DC500W电源：2套

流量显示、流量控制器：1套

9、备品备件：1套