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反射式膜厚测量仪

tel: 400-6699-117 1000

半球半导体专用检测仪器设备, 产品特点: ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。? 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)? 对应显微镜下的微距测量口径。

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产品特点:                                                              

? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。

? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。

? 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)

? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)

? 对应显微镜下的微距测量口径。


产品规格:                                                              


标准型

厚膜专用型


膜存测量范围

1nm~40μm

0.8μm~250μm


波长测量范围


190~1100nm

750~850nm


感光元件

PDA 512ch(电子制冷)

CCD 512ch(电子制冷)

PDA 512ch(电子制冷)

光源规格

D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)

12(可见光)


电源规格

AC 100V±10V 750VA(自动样品台规格)



尺寸

4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)



重量

约96kg(自动样品台规格之主体部分)




 应用范围:                                                              

FPD

   -LCD、TFT、OLED(有机EL)

半导体、复合半导体

   -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料

资料储存

   -DVD、磁头薄膜、磁性材料

光学材料

   -滤光片、抗反射膜

平面显示器

   -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED

薄膜

   -AR膜

其他

   -建筑用材料


测量范围:                                                              

玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析


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电话:400-6699-117 转 1000

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