等离子体增强化学气相沉积系统CVD
tel: 400-6699-117 转 1000泽攸科技化学气相沉积(CVD), 用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而......
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产品型号:等离子体增强CVD
品牌:泽攸科技
产品产地:安徽
产品类型:国产
原制造商:泽攸科技
状态:在售
厂商指导价格: 50~100万元[人民币]
上市时间: 2019-10-30
英文名称:Plasma enhanced chemical vapor deposition system CVD
优点:用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。
参考成交价格: 50~100万元[人民币]
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