T/ZJATA 0017-2023
制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

Chemical vapor deposition (CVD) epitaxy equipment for preparing silicon carbide semiconductor materials

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标准号

T/ZJATA 0017-2023

发布

2023年

发布单位

中国团体标准

当前最新

T/ZJATA 0017-2023

 

 

适用范围

本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称“外延设备”）的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容，对外延设备的反应室系统、温度控制系统、加热系统、真空系统、加工（碳化硅外延片）质量指标给出了统一技术参数及评价方法。通过对可靠性、加工效率、温度压力流量等关键参数控制，保证了设备的精准性、安全性。

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